[發明專利]一種用于汞離子微波頻標的光路整形裝置在審
| 申請號： | 202011554597.6 | 申請日： | 2020-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN112666716A | 公開（公告）日： | 2021-04-16 |
| 發明（設計）人： | 王暖讓;趙環;陳星;薛瀟博;張升康 | 申請（專利權）人： | 北京無線電計量測試研究所 |
| 主分類號： | G02B27/09 | 分類號： | G02B27/09;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京正理專利代理有限公司 11257 | 代理人： | 戴元毅 |
| 地址： | 100854 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 離子 微波 標的 整形 裝置 | ||
1.一種用于汞離子微波頻標的光路整形裝置,其特征在于，所述裝置包括：
汞燈、透鏡組、濾光裝置和離子阱；
所述汞燈的發散光經過所述透鏡組獲得整形光束；
所述濾光裝置用于濾除所述整形光束中包含的雜散光，使得有用光進入所述離子阱，得到躍遷譜線。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：
鏡筒，將所述光整形模塊和濾光模塊置于所述鏡筒內。
3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述汞燈內充有1托的氬氣和3mg的202Hg同位素，所述經高頻激勵發光。
4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述透鏡組包括第一平凸透鏡、第二平凸透鏡和柱面鏡；
所述第一平凸透鏡的第一面接收所述發散光并進行第一次聚光，產生的一次會聚光束由所述第一平凸透鏡的第二面射入所述第二平凸透鏡的第二面，所述第二平凸透鏡接收所述一次會聚光束并進行第二次聚光產生二次會聚光束，所述二次會聚光束射入所述柱面鏡的第一面進行光束整形，整形光束由所述柱面鏡的第二面射出。
5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述濾光裝置由光闌組成，所述光闌為矩形光闌，置于所述離子阱的光窗處。
6.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，
所述鏡筒內壁粘貼有吸光材料，用于避免光束經過內壁發生多次反射。
7.根據權利要求4的所述的裝置，其特征在于，
所述第一平凸透鏡、第二平凸透鏡和柱面鏡均鍍有194nm的深紫外增透膜。
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