[發明專利]光電化學水分解用的復合材料及其制備方法、應用和電極有效
| 申請號： | 202011554330.7 | 申請日： | 2020-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN112795937B | 公開（公告）日： | 2021-12-14 |
| 發明（設計）人： | 陳旭;徐文;史志鋒;李新建 | 申請（專利權）人： | 鄭州大學 |
| 主分類號： | C25B1/04 | 分類號： | C25B1/04;C25B1/55;C25B11/091;B22F9/24;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京專贏專利代理有限公司 11797 | 代理人： | 于剛 |
| 地址： | 450000 河南*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光電 化學 水分 復合材料 及其 制備 方法 應用 電極 | ||
1.光電化學水分解用的復合材料，其特征在于，包括Ti3C2-MXene納米片以及原位生長在所述Ti3C2-MXene納米片上的金納米棒；
所述復合材料的制備方法包括以下步驟：
將十六烷基三甲基溴化銨、HAuCl4和Ti3C2-MXene納米片配制成溶液，并添加NaBH4進行混合攪拌，得到種子溶液；
將十六烷基三甲基溴化銨和HAuCl4配制成溶液，并添加AgNO3和HCl進行混合后，再添加抗壞血酸進行混合，得到混合溶液；
將種子溶液添加至混合溶液中進行混合攪拌后，再添加去離子水進行離心處理，得到所述復合材料；
其中，所述種子溶液中，十六烷基三甲基溴化銨的濃度為0.05~0.15mol/L，HAuCl4的濃度為0.5~1.5mmol/L；
所述種子溶液中，Ti3C2-MXene納米片的濃度為0.5~1.5mg/mL，NaBH4的濃度為5~15mmol/L；
所述混合溶液中，AgNO3的濃度為5~15mmol/L，HCl的濃度為1~3mol/L，抗壞血酸的濃度為0.05~0.15mol/L；
所述混合溶液中，十六烷基三甲基溴化銨的濃度為0.05~0.15mol/L，HAuCl4的濃度為0.5~1.5mmol/L。
2.如權利要求1所述的復合材料在光電化學水分解中的應用。
3.光電化學水分解用的電極，包括導電襯底，其特征在于，所述導電襯底上設有如權利要求1所述的復合材料。
4.根據權利要求3所述的光電化學水分解用的電極，其特征在于，所述電極的制備方法包括以下步驟：
將所述復合材料分散于水中，并與全氟磺酸溶液進行混合后，再旋涂在導電襯底上，得到所述電極。
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