[發明專利]配置方案選擇方法在審
| 申請號： | 202011553685.4 | 申請日： | 2020-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN112782942A | 公開（公告）日： | 2021-05-11 |
| 發明（設計）人： | M·V·梅德韋德耶瓦;M·I·德拉富恩特瓦倫丁;M·約爾根;G·博特加爾;T·扎卡洛普洛 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 呂世磊 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 配置 方案 選擇 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種配置方案選擇方法，包括：
從量測目標獲得測量結果，量測目標被定位在半導體晶片上，
從器件內目標獲得測量結果，器件內目標被定位在所述半導體晶片上，
使用量測目標測量結果以及器件內量測測量結果兩者來確定用于準確量測的配置方案。
2.根據權利要求1所述的方法，其中所述量測目標與所述器件內目標緊密接近。
3.根據權利要求1所述的方法，其中所述量測測量結果是光瞳面中的測量結果的對稱部分。
4.根據權利要求1所述的方法，其中所述量測測量結果是光瞳面中的測量結果的反對稱部分。
5.根據權利要求1所述的方法，其中所述量測測量結果是光瞳面中的測量結果的對稱部分和反對稱部分。
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