[發明專利]一種目標RCS測量用吸波屏在審
| 申請號: | 202011552790.6 | 申請日: | 2020-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN112748414A | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發明(設計)人: | 張澎;高巍;張磊 | 申請(專利權)人: | 中國航空工業集團公司沈陽飛機設計研究所 |
| 主分類號: | G01S7/41 | 分類號: | G01S7/41;G01S7/02 |
| 代理公司: | 北京航信高科知識產權代理事務所(普通合伙) 11526 | 代理人: | 劉傳準 |
| 地址: | 110035 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 目標 rcs 測量 用吸波屏 | ||
本申請屬于近地靜態RCS測量技術領域,特別涉及一種目標RCS測量用吸波屏。其包括吸波屏基底,吸波屏基底上設置有吸波材料,吸波屏基底的底端位于反射地面上,頂端向后傾斜并被支撐,吸波屏基底正面朝向雷達來波方向,所述吸波屏基底的左側設置有左側面鋸齒邊緣,右側設置有右側面鋸齒邊緣,頂側設置有頂面鋸齒邊緣,其中,左側面鋸齒邊緣、右側面鋸齒邊緣以及頂面鋸齒邊緣均包括多個三角形鋸齒,鋸齒尖端朝遠離吸波屏基底的方向延伸。本申請可更高效地剔除吸波屏頂面邊緣及兩個側面邊緣繞射引入的散射干擾成分,降低或消除吸波屏繞射波對測量結果的影響,提高近地靜態RCS測量被測目標RCS測量結果精度。
技術領域
本申請屬于近地靜態RCS測量技術領域,特別涉及一種目標RCS測量用吸波屏。
背景技術
隨著低可探測技術在軍事裝備上的廣泛應用,雷達目標的RCS值越來越小,對目標RCS測試設備及環境的要求越來越高,背景雜波電平已成為制約進一步提高近地靜態RCS測試場目標RCS測量精度的重要因素。
近地測量條件下,測試系統接收機實際接收到的信號功率除待測目標回波信號外,還包括:收發天線間的耦合信號、收發支路隔離度差造成的內部信號泄漏、待測目標區背景信號及場地直接回波信號等干擾信號,其中,多路徑干擾是近地靜態RCS測試場背景雜波的主要來源。
設置吸波屏是近地靜態RCS測試場抑制多路徑干擾的常用手段,典型的應用如美國的Tejon室外測試場。吸波屏架設于RCS測量系統天線與被測目標之間地面上,其架設方向與RCS測量系統天線和被測目標視軸方向垂直,用于阻擋或散射照射到地面的多路徑信號,通過優化設計吸波屏的高度、寬度、傾角及架設位置等,可使多路徑干擾降低到可接受的水平。但是,金屬吸波屏在抑制或阻擋多路徑干擾信號的同時,必然會在被測目標區引入繞射場(表面繞射場和邊緣繞射場),繞射場的存在是被測目標RCS測量結果新的誤差來源。其中,吸波屏頂面繞射場是吸波屏引入的場干擾的主要來源。
發明內容
為了解決上述問題,本申請提供了一種目標RCS測量用吸波屏,包括吸波屏基底,其上設置有吸波材料,吸波屏基底的底端位于反射地面上,頂端向后傾斜并被支撐,吸波屏基底正面朝向雷達來波方向,其中,所述吸波屏基底的左側設置有左側面鋸齒邊緣,右側設置有右側面鋸齒邊緣,頂側設置有頂面鋸齒邊緣,左側面鋸齒邊緣、右側面鋸齒邊緣以及頂面鋸齒邊緣均包括多個三角形鋸齒,鋸齒尖端朝遠離吸波屏基底的方向延伸。
優選的是,所述鋸齒尖端角度為銳角。
優選的是,所述左側面鋸齒邊緣及右側面鋸齒邊緣與所述吸波屏基底焊接。
優選的是,所述頂面鋸齒邊緣通過調整機構與吸波屏基底連接,所述調整機構用于調整頂面鋸齒邊緣的傾斜角度。
優選的是,所述調整機構為調節螺母,所述吸波屏基底的頂面在后側向上延伸有擋板,擋板上設置有螺紋孔,頂面鋸齒邊緣包括邊緣主體及邊齒,邊緣主體底部設置搭接在吸波屏基底的頂面上,調節螺母的一端穿過擋板的螺紋孔后,頂接在邊緣主體上。
優選的是,所述左側面鋸齒邊緣、右側面鋸齒邊緣以及頂面鋸齒邊緣的底側與吸波屏基底的側面及頂面隨形設計,所述左側面鋸齒邊緣、右側面鋸齒邊緣以及頂面鋸齒邊緣與吸波屏基底之間通過導電漆連接。
本申請可更高效地剔除吸波屏邊緣(頂面、兩個側面)繞射引入的散射干擾成分,降低或消除吸波屏繞射波對測量結果的影響,提高近地靜態RCS測量被測目標RCS測量結果精度。
附圖說明
圖1是本申請目標RCS測量用吸波屏的結構示意圖。
圖2是圖1所示實施例的側視圖。
其中,1-吸波屏基底,11-左側面鋸齒邊緣,12-右側面鋸齒邊緣,13-頂面鋸齒邊緣,14-調整機構,15-擋板,131-邊緣主體,132-邊齒。
具體實施方式
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