[發(fā)明專利]一種書寫軌跡處理方法、裝置及交互平板

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011552488.0
• 申請(qǐng)日: 2020-12-24
• 公開（公告）號(hào): CN112596661A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 夏青
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州視源電子科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/0488
• 分類號(hào): G06F3/0488
• 代理公司: 北京博思佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415
• 代理人: 王茹

本說明書提供一種書寫軌跡處理方法、裝置及交互平板，該方法中，根據(jù)拐點(diǎn)數(shù)量來確定目標(biāo)書寫軌跡，再基于目標(biāo)書寫軌跡與書寫區(qū)域中當(dāng)前的書寫狀態(tài)來確定是否執(zhí)行擦除流程，在執(zhí)行擦除流程時(shí)，基于目標(biāo)書寫軌跡來確定需要擦除的部分并進(jìn)行擦除，這樣，通過一個(gè)目標(biāo)書寫軌跡同時(shí)實(shí)現(xiàn)了擦除功能的觸發(fā)以及擦除功能的執(zhí)行，整個(gè)擦除過程中用戶只需要執(zhí)行一次目標(biāo)書寫軌跡的輸入即可，無需執(zhí)行多次操作，提升了書寫效率和使用體驗(yàn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本說明書涉及數(shù)據(jù)處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種書寫軌跡處理方法、裝置及交互平板。

背景技術(shù)

隨著電子設(shè)備技術(shù)的快速發(fā)展，電子白板、平板電腦、智能會(huì)議平板等書寫設(shè)備得到了廣泛應(yīng)用。用戶可以在書寫設(shè)備上書寫各種筆畫(用戶每次落筆到抬筆產(chǎn)生一條筆畫)，以及對(duì)筆畫進(jìn)行擦除。

相關(guān)技術(shù)中，在進(jìn)行筆畫擦除操作時(shí)，需要用戶先點(diǎn)擊對(duì)應(yīng)擦除功能的控件，比如橡皮擦按鈕，再在書寫設(shè)備上對(duì)需要擦除的部分進(jìn)行擦除。可以理解的，這一方式需要用戶來回點(diǎn)擊相關(guān)控件以切換輸入模式，對(duì)于用戶來說是非常不方便的。

發(fā)明內(nèi)容

為克服相關(guān)技術(shù)中存在的問題，本說明書提供了一種書寫軌跡處理方法、裝置及交互平板

根據(jù)本說明書實(shí)施例的第一方面，提供一種書寫軌跡處理方法，包括：

檢測書寫區(qū)域中是否出現(xiàn)目標(biāo)書寫軌跡，所述目標(biāo)書寫軌跡的拐點(diǎn)數(shù)量大于第一預(yù)設(shè)閾值；

基于所述目標(biāo)書寫軌跡與所述書寫區(qū)域中當(dāng)前的書寫狀態(tài)，確定是否執(zhí)行擦除流程；所述擦除流程中，基于所述目標(biāo)書寫軌跡確定所述書寫區(qū)域中需擦除的書寫軌跡。

在某些例子中，上述基于所述目標(biāo)書寫軌跡與所述書寫區(qū)域中當(dāng)前的書寫狀態(tài)，確定是否執(zhí)行擦除流程，包括：

若所述書寫區(qū)域中未存在除目標(biāo)書寫軌跡的其他書寫軌跡，確定不執(zhí)行擦除流程。

在某些例子中，上述基于所述目標(biāo)書寫軌跡與所述書寫區(qū)域中當(dāng)前的書寫狀態(tài)，確定是否執(zhí)行擦除流程，包括：

將所述書寫區(qū)域中與所述目標(biāo)書寫軌跡存在交點(diǎn)的其他書寫軌跡確定為待擦除軌跡；

基于所述目標(biāo)書寫軌跡和所述待擦除軌跡之間交點(diǎn)的分布情況，確定是否執(zhí)行擦除流程。

在某些例子中，每個(gè)書寫軌跡包括至少一個(gè)軌跡線段，每個(gè)所述軌跡線段具有一個(gè)對(duì)應(yīng)的特征向量，所述特征向量是基于所述書寫區(qū)域所映射的坐標(biāo)系得到的；所述目標(biāo)書寫軌跡與所述其他書寫軌跡的交點(diǎn)基于各軌跡線段的特征向量確定。

在某些例子中，上述基于所述目標(biāo)書寫軌跡和所述待擦除軌跡之間交點(diǎn)的分布情況，確定是否執(zhí)行擦除流程，包括：

若所述目標(biāo)書寫軌跡和所述待擦除軌跡之間交點(diǎn)的數(shù)量小于第二預(yù)設(shè)閾值，確定不執(zhí)行擦除流程。

在某些例子中，上述基于所述目標(biāo)書寫軌跡和所述待擦除軌跡之間交點(diǎn)的分布情況，確定是否執(zhí)行擦除流程，包括：

若所述目標(biāo)書寫軌跡和所述待擦除軌跡之間交點(diǎn)的數(shù)量大于或等于第二預(yù)設(shè)閾值、且所有交點(diǎn)線段的長度總和與所述待擦除軌跡的長度的比值大于第三預(yù)設(shè)閾值，確定執(zhí)行擦除流程。

在某些例子中，上述方法還包括：

若所述目標(biāo)書寫軌跡包括閉合的軌跡，在執(zhí)行所述擦除流程時(shí)，對(duì)所述閉合的軌跡對(duì)應(yīng)的閉合區(qū)域內(nèi)存在的書寫軌跡進(jìn)行擦除。

根據(jù)本說明書實(shí)施例的第二方面，提供一種書寫軌跡處理裝置，包括：

檢測模塊，用于檢測書寫區(qū)域中是否出現(xiàn)目標(biāo)書寫軌跡，所述目標(biāo)書寫軌跡的拐點(diǎn)數(shù)量大于第一預(yù)設(shè)閾值；

確定模塊，用于基于所述目標(biāo)書寫軌跡與所述書寫區(qū)域中當(dāng)前的書寫狀態(tài)，確定是否執(zhí)行觸發(fā)擦除模塊；