[發(fā)明專利]一種銅蝕刻液組合物及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011552376.5 | 申請(qǐng)日： | 2020-12-24 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN112795923B | 公開(kāi)（公告）日： | 2023-01-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 徐帥;張紅偉;李闖;胡天齊;錢鐵民 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 江蘇和達(dá)電子科技有限公司;四川和晟達(dá)電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23F1/14 | 分類號(hào)： | C23F1/14 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 鞏克棟 |
| 地址： | 212212 江蘇*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 蝕刻 組合 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種銅蝕刻液組合物，其特征在于，所述銅蝕刻液組合物包括主劑和輔劑，所述主劑和輔劑中均含有三聚氰胺衍生物；
所述三聚氰胺衍生物為六羥丙基三聚氰胺；
所述主劑按照質(zhì)量百分比含量包含如下組分：
所述輔劑按質(zhì)量百分比含量包括以下組分：
所述主劑、輔劑中的有機(jī)酸選自丙二酸、丁二酸、蘋果酸和次氨基三乙酸的組合；
所述主劑、輔劑中的有機(jī)堿選自二甲基乙醇胺和三乙醇胺；
在蝕刻過(guò)程中，按照銅離子濃度每升高100ppm，向體系中添加占蝕刻液主劑質(zhì)量的0.05％-0.15％的蝕刻液輔劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅蝕刻液組合物，其特征在于，主劑中的雙氧水穩(wěn)定劑選自苯基脲和/或?qū)αu基苯磺酸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的銅蝕刻液組合物，其特征在于，主劑中的雙氧水穩(wěn)定劑選自苯基脲。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅蝕刻液組合物，其特征在于，主劑中溶劑為超純水。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的銅蝕刻液組合物，其特征在于，輔劑中的溶劑為超純水。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的銅蝕刻液組合物的制備方法，其特征在于，所述制備方法為：
(1)將過(guò)氧化氫、有機(jī)酸、有機(jī)堿、雙氧水穩(wěn)定劑、三聚氰胺衍生物與溶劑在溫度不超過(guò)50℃的情況下混合攪拌，經(jīng)過(guò)濾合格后得到所述銅蝕刻液主劑；
(2)將有機(jī)酸、有機(jī)堿、三聚氰胺衍生物與溶劑在溫度不超過(guò)50℃的情況下混合攪拌，經(jīng)過(guò)濾合格后得到所述銅蝕刻液輔劑；得到主劑和輔劑后即得到所述銅蝕刻液組合物。
7.一種銅膜層的蝕刻方法，其特征在于，所述蝕刻方法利用如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的銅蝕刻液組合物進(jìn)行蝕刻。
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