[發(fā)明專利]一種高分辨率的正電子發(fā)射型計算機斷層顯像系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011550171.3
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN112754509A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設計）人: 許劍鋒;于洪森;張熙;杜菁;謝思維;彭旗宇
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 孔娜;李智

1.一種高分辨率的正電子發(fā)射型計算機斷層顯像系統(tǒng)，其特征在于，包括探測器和多通道讀出電子電路，其中：

所述探測器包括多個探測器模塊，該多個探測器模塊相互耦合共同構成一環(huán)狀的檢測空間；所述探測器模塊包括由內至外依次設置的閃爍晶體(1)、楔形光導(2)、硅光電倍增管陣列(4)，所述閃爍晶體(1)包括多個晶條(6)，且晶條(6)間均設置有反射鍍層(5)；所述多通道讀出電子電路用于處理所述探測器輸出的電信號，進而完成成像。

2.如權利要求1所述的高分辨率的正電子發(fā)射型計算機斷層顯像系統(tǒng)，其特征在于，所述閃爍晶體(1)包括呈陣列狀的多個晶條(6)，所述硅光電倍增管陣列(4)包括呈陣列狀的多個硅光電倍增管(3)，且一個硅光電倍增管(3)對應耦合多個晶條(6)。

3.如權利要求1所述的高分辨率的正電子發(fā)射型計算機斷層顯像系統(tǒng)，其特征在于，所述晶條(6)橫截面尺寸小于0.5mm×0.5mm。

4.如權利要求1所述的高分辨率的正電子發(fā)射型計算機斷層顯像系統(tǒng)，其特征在于，所述楔形光導(2)由亞克力或透明樹脂制成。

5.如權利要求1所述的高分辨率的正電子發(fā)射型計算機斷層顯像系統(tǒng)，其特征在于，所述反射鍍層(5)為硫酸鋇鍍層。

6.如權利要求1所述的高分辨率的正電子發(fā)射型計算機斷層顯像系統(tǒng)，其特征在于，所述多通道讀出電子電路包括依次相連的數(shù)據(jù)傳輸排線、電路模擬板和FPGA，所述硅光電倍增管陣列(4)通過數(shù)據(jù)傳輸排線與電路模擬板相連。

7.如權利要求1-6任一項所述的高分辨率的正電子發(fā)射型計算機斷層顯像系統(tǒng)，其特征在于，還包括機架，其通過光敏樹脂3D打印而成，所述探測器和多通道讀出電子電路分別安裝在該機架兩端。