[發(fā)明專利]電場線的顯示圖像的生成方法和裝置、存儲介質

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• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN112580213A
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發(fā)明（設計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權）人: 北京砍石高科技有限公司
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20;G06T11/20
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

1.一種電場線的顯示圖像的生成方法，包括：

接收至少一個電荷的參數(shù)，其中，所述至少一個電荷的參數(shù)包括所述至少一個電荷的坐標和所述至少一個電荷的電荷量，所述電場線模擬和描述所述至少一個電荷形成的電場的分布，所述顯示圖像包括多個圖像像素；

基于所述至少一個電荷的參數(shù)計算所述至少一個電荷形成的電場的流函數(shù)在對應于所述多個圖像像素的位置處的值，并獲取分別對應于所述多個圖像像素的多個流函數(shù)值；以及

基于所述多個流函數(shù)值分別設定所述多個圖像像素的透明度。

2.根據(jù)權利要求1所述的生成方法，其中，利用圖形處理器的并行處理陣列包括的多個處理單元分別計算所述至少一個電荷形成的電場的流函數(shù)在對應于所述多個圖像像素的位置處的值。

3.根據(jù)權利要求2所述的生成方法，其中，由片段著色器接收所述至少一個電荷的參數(shù)；以及

使得所述多個處理單元分別調用所述片段著色器計算所述至少一個電荷形成的電場的流函數(shù)在對應于所述多個圖像像素的位置處的值。

4.根據(jù)權利要求1所述的生成方法，其中，所述至少一個電荷中的第k個電荷形成的電場的流函數(shù)φ_k(x，y)滿足以下的關系式：

其中，n_k的絕對值等于用于模擬和描述所述第k個電荷形成的電場的電場線的數(shù)目；(x_k，y_k)為所述第k個電荷的坐標；(x，y)用于表示所述多個圖像像素的任一個的坐標，k為正整數(shù)。

5.根據(jù)權利要求4所述的生成方法，其中，所述至少一個電荷的電荷量包括所述第k個電荷的電荷量；以及

所述生成方法還包括：基于所述第k個電荷的電荷量計算所述用于模擬和描述所述第k個電荷形成的電場的電場線的數(shù)目。

6.根據(jù)權利要求4所述的生成方法，其中，所述至少一個電荷包括多個電荷；以及

所述至少一個電荷形成的電場的流函數(shù)在對應于所述多個圖像像素的每個圖像像素的位置處的值等于所述多個電荷形成的電場的流函數(shù)在對應于所述多個圖像像素的每個圖像像素的位置處的值的和。

7.根據(jù)權利要求1-6任一項所述的生成方法，其中，所述基于所述多個流函數(shù)值分別設定所述多個圖像像素的透明度，包括：

分別對所述多個流函數(shù)值相對于預設常數(shù)執(zhí)行取余操作，以分別獲取多個余數(shù)；以及

基于所述多個余數(shù)的絕對值分別設定所述多個圖像像素的透明度。

8.根據(jù)權利要求7所述的生成方法，其中，所述預設常數(shù)為2π。

9.根據(jù)權利要求7所述的生成方法，其中，所述基于所述多個余數(shù)的絕對值分別設定所述多個圖像像素的透明度，包括：

分別對所述多個余數(shù)的絕對值執(zhí)行歸一化操作，以分別獲得多個歸一化值；

基于所述多個歸一化值執(zhí)行線條銳化操作，以分別基于所述多個歸一化值獲得多個銳化值；以及

基于所述多個銳化值設定所述多個圖像像素的透明度。

10.根據(jù)權利要求9所述的生成方法，其中，所述多個圖像像素中第i行第j列的圖像像素的透明度t_ij和所述多個銳化值中對應于所述第i行第j列的圖像像素的銳化值r_ij滿足以下的表達式：

t_ij＝round(T×r_ij)；

T為所述顯示圖像的多個圖像像素的透明度的上限值，round表示四舍五入取整操作。

11.根據(jù)權利要求9所述的生成方法，其中，所述基于所述多個歸一化值執(zhí)行線條銳化操作，以分別基于所述多個歸一化值獲得多個銳化值，包括：

對所述多個歸一化值執(zhí)行映射操作，以分別基于所述多個歸一化值獲得多個映射值；以及

分別計算所述多個映射值的m次冪，并將所述多個映射值的m次冪分別作為所述多個銳化值，其中，m為大于8的自然數(shù)。

12.根據(jù)權利要求11所述的生成方法，其中，m為大于10小于30的整數(shù)。