[發明專利]一種制備低氧鈦粉的方法

有效

• 申請號: 202011547400.6
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN112756621B
• 公開（公告）日: 2021-12-31
• 發明（設計）人: 張盈;鄭詩禮;孫沛
• 申請（專利權）人: 中國科學院過程工程研究所
• 主分類號: B22F9/22
• 分類號: B22F9/22;B22F1/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

1.一種制備低氧鈦粉的方法，其特征在于，所述方法包括如下步驟：

(1)第一部分二氧化鈦依次經第一還原劑還原和第一濕法處理，得到粗鈦；

(2)混合所述粗鈦與第二部分二氧化鈦，得到混合物料，所述混合物料依次經燒結和破碎，得到鈦氧中間體；在步驟(2)中所述燒結前，將混合物料進行造粒；

(3)所述鈦氧中間體依次經第二還原劑還原和第二濕法處理，得到低氧鈦粉；

所述第二部分二氧化鈦和第一部分二氧化鈦的質量比為1:(2～65)。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一還原劑和第二還原劑各自獨立地包括Mg、Ca、Mg-Li合金或Mg-Ca合金中的一種或至少兩種的組合。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一還原劑和第二還原劑各自獨立地為粉狀、屑狀或顆粒狀中的一種或至少兩種的組合。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第一還原劑與第一部分二氧化鈦的質量比為(0.6～1.5):1。

5.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第二還原劑與鈦氧中間體的質量比為(0.05～5):1。

6.根據權利要求1～3任一項所述的方法，其特征在于，步驟(1)和步驟(3)中還原的溫度各自獨立地為600～1200℃。

7.根據權利要求1～3任一項所述的方法，其特征在于，步驟(1)和步驟(3)中還原的氣氛各自獨立地為真空或保護氣氛。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述保護氣氛包括氫氣、氬氣或氦氣中的任意一種或至少兩種的組合。

9.根據權利要求1～3任一項所述的方法，其特征在于，步驟(1)和步驟(3)中還原時各自獨立地加入還原輔助劑。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，步驟(1)和步驟(3)中所述還原輔助劑各自獨立地包括MgCl₂、CaCl₂、NaCl、KCl、LiCl、MgCl₂-CaCl₂共熔鹽、MgCl₂-NaCl共熔鹽、MgCl₂-KCl共熔鹽、MgCl₂-LiCl共熔鹽、CaCl₂-NaCl共熔鹽、CaCl₂-KCl共熔鹽、CaCl₂-LiCl共熔鹽、NaCl-KCl共熔鹽、NaCl-LiCl共熔鹽、KCl-LiCl共熔鹽或NaCl-KCl-LiCl共熔鹽中的任意一種或至少兩種的組合。

11.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述還原輔助劑與第一部分二氧化鈦的質量比為(0.05～3):1。

12.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述還原輔助劑與鈦氧中間體的質量比為(0.05～3):1。

13.根據權利要求1～3任一項所述的方法，其特征在于，步驟(1)中所述第一濕法處理包括：還原產物經水和/或酸液漿化，得到漿料；所述漿料依次經pH調節、固液分離、洗滌和干燥，得到粗鈦。

14.根據權利要求13所述的方法，其特征在于，所述酸液的pH≥0.5。

15.根據權利要求13所述的方法，其特征在于，所述漿化的液固比為(1～100):1mL/g。

16.根據權利要求13所述的方法，其特征在于，所述pH調節過程中控制漿料的pH≥0.8。