[發(fā)明專利]曝光機(jī)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011546676.2
• 申請(qǐng)日: 2020-12-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114660902A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉波
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 高益秀;黃健

本發(fā)明提供一種曝光機(jī)，涉及半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù)，用于解決曝光后晶圓良率低的問(wèn)題。該曝光機(jī)包括機(jī)臺(tái)、遮擋裝置以及驅(qū)動(dòng)裝置；機(jī)臺(tái)設(shè)置有凹陷部，凹陷部具有頂部敞口，凹陷部?jī)?nèi)設(shè)置有基座和放置臺(tái)，放置臺(tái)可升降的設(shè)置在基座上，放置臺(tái)用于承載掩膜版載具，掩膜版載具內(nèi)裝載有掩膜版，掩膜版載具能夠從頂部敞口置于放置臺(tái)上；機(jī)臺(tái)上還設(shè)置有驅(qū)動(dòng)裝置和可活動(dòng)的遮擋裝置，驅(qū)動(dòng)裝置與遮擋裝置連接，遮擋裝置處于初始位置時(shí)，遮擋裝置遮擋頂部敞口，當(dāng)掩膜版載具需要從頂部敞口置于放置臺(tái)上時(shí)，驅(qū)動(dòng)裝置打開(kāi)遮擋裝置，并暴露出頂部敞口，以使掩膜版載具能夠從頂部敞口置于放置臺(tái)上。本發(fā)明的曝光機(jī)可以使得晶圓曝光后的良率提升。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù)，尤其涉及一種曝光機(jī)。

背景技術(shù)

曝光機(jī)是指通過(guò)UVA波長(zhǎng)的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)的表面上的機(jī)器設(shè)備。

相關(guān)技術(shù)中，曝光機(jī)上設(shè)置有凹陷部，凹陷部的頂部具有頂部敞口，凹陷部的前側(cè)具有前側(cè)敞口，凹陷部的內(nèi)部設(shè)置可活動(dòng)的放置臺(tái)，曝光機(jī)外的掩膜版可以從頂部敞口或者前側(cè)敞口置于放置臺(tái)上，進(jìn)而進(jìn)入到曝光機(jī)的內(nèi)部。

然而，環(huán)境中的顆粒物可以從頂部敞口進(jìn)入到放置臺(tái)上，進(jìn)而隨放置臺(tái)上的掩膜版進(jìn)入到曝光機(jī)內(nèi)，污染掩膜版，降低晶圓曝光的產(chǎn)品良率。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種曝光機(jī)，以解決掩膜版污染，進(jìn)而解決晶圓曝光的產(chǎn)品良率低的問(wèn)題。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實(shí)施例提供一種曝光機(jī)，其包括機(jī)臺(tái)、遮擋裝置以及驅(qū)動(dòng)裝置；機(jī)臺(tái)設(shè)置有凹陷部，凹陷部具有頂部敞口，凹陷部?jī)?nèi)設(shè)置有基座和放置臺(tái)，放置臺(tái)可升降的設(shè)置在基座上，放置臺(tái)用于承載掩膜版載具，掩膜版載具內(nèi)裝載有掩膜版，掩膜版載具能夠從頂部敞口置于放置臺(tái)上；機(jī)臺(tái)上還設(shè)置有驅(qū)動(dòng)裝置和可活動(dòng)的遮擋裝置，驅(qū)動(dòng)裝置與遮擋裝置連接，遮擋裝置處于初始位置時(shí)，遮擋裝置遮擋頂部敞口，當(dāng)掩膜版載具需要從頂部敞口置于放置臺(tái)上時(shí)，驅(qū)動(dòng)裝置打開(kāi)遮擋裝置，并暴露出頂部敞口，以使掩膜版載具能夠從頂部敞口置于放置臺(tái)上。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的曝光機(jī)具有如下優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明實(shí)施例的曝光機(jī)，機(jī)臺(tái)的凹陷部?jī)?nèi)設(shè)置基座和放置臺(tái)，放置臺(tái)可升降的設(shè)置在基座上，機(jī)臺(tái)上還設(shè)置驅(qū)動(dòng)裝置和可活動(dòng)的遮擋裝置，遮擋裝置在初始位置時(shí)，遮擋凹陷部的頂部敞口，當(dāng)掩膜版載具需要從頂部敞口置于放置臺(tái)上時(shí)，驅(qū)動(dòng)裝置打開(kāi)遮擋裝置，暴露出頂部敞口，如此，不僅可以在掩膜版載具需要從頂部敞口置于放置臺(tái)上時(shí)，使得驅(qū)動(dòng)裝置打開(kāi)遮擋裝置，頂部敞口暴露，掩膜版載具可以順利放置在放置臺(tái)上，而且在掩膜版載具不需要從頂部敞口置于放置臺(tái)上時(shí)，可以使得遮擋裝置關(guān)閉頂部敞口，有效防止顆粒物從頂部敞口進(jìn)入到凹陷部?jī)?nèi)的放置臺(tái)上，使得掩膜版上幾乎沒(méi)有顆粒物，晶圓曝光后的產(chǎn)品良率提升。

在一些實(shí)施方式中，曝光機(jī)還包括傳動(dòng)裝置，傳動(dòng)裝置包括相嚙合的齒輪和齒條；遮擋裝置包括擋板，擋板與齒條緊固連接；驅(qū)動(dòng)裝置包括電機(jī)，電機(jī)的輸出軸上設(shè)置齒輪。

在一些實(shí)施方式中，傳動(dòng)裝置包括相嚙合的第一齒輪和第一齒條，以及相嚙合的第二齒輪和第二齒條；遮擋裝置包括可相向或相背移動(dòng)的第一擋板和第二擋板，第一擋板的邊緣設(shè)置第一齒條，第二擋板的邊緣設(shè)置第二齒條；驅(qū)動(dòng)裝置包括第一電機(jī)和第二電機(jī)，第一電機(jī)的輸出軸設(shè)置第一齒輪，第二電機(jī)的輸出軸設(shè)置第二齒輪。