[發(fā)明專利]一種去除掩膜版上的孔邊毛刺的方法

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• 申請日: 2020-12-23
• 公開（公告）號: CN112631070A
• 公開（公告）日: 2021-04-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 錢超;楊波
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇高光半導(dǎo)體材料有限公司
• 主分類號: G03F1/68
• 分類號: G03F1/68;G03F1/72
• 代理公司: 南京行高知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32404
• 代理人: 肖念

本發(fā)明公開了一種去除掩膜版上的孔邊毛刺的方法，包括S1，步驟S1，加工盲孔：在掩膜版的對應(yīng)位置加工盲孔；S2，盲孔注蠟：將熔融的熱蠟滴入到盲孔中，靜置冷卻后鏟除盲孔上多余的蠟；S3，步驟S3，表面研磨：將注蠟完成的掩膜版上機整體進(jìn)行打磨，去除盲孔周邊打孔時翹起的毛刺；步驟S4，加熱溶蠟：將打磨好的掩膜版進(jìn)行加熱，用加熱后的溶劑對盲孔進(jìn)行沖洗，本發(fā)明通過在掩膜版上開盲孔，再向盲孔中注蠟的方式，對盲孔進(jìn)行填塞，保證掩模版在研磨前毛刺不翻入到盲孔中，克服現(xiàn)有加工盲孔中容易進(jìn)入雜物的困難，通過加熱以及溶劑沖洗的方式，可在外部研磨結(jié)束后，對盲孔內(nèi)部的蠟進(jìn)行溶解沖洗，實現(xiàn)盲孔內(nèi)部以及周邊的清潔。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及膜版技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種去除掩膜版上的孔邊毛刺的方法。

背景技術(shù)

光掩膜基版是制作微細(xì)光掩膜圖形的理想感光性空白板，通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。掩膜版在加工時需要進(jìn)行打孔，常見的加工工藝均會在孔的頂部留有毛刺凸起，而毛刺會直接影響后續(xù)掩膜版的使用，會使得機器造成更大的誤差，因此一般都需要對其進(jìn)行研磨去毛刺處理，來使得其本身保持光潔，不會受到毛刺等瑕疵的影響。

傳統(tǒng)的研磨工藝會在掩模版表面直接研磨，將毛刺去除，但此種方式會出現(xiàn)一部分毛刺被打磨掉，還會出現(xiàn)部分毛刺會因為研磨而翻入孔內(nèi)部，給接下來的工序造成麻煩。

基于此，本發(fā)明設(shè)計了一種去除掩膜版上的孔邊毛刺的方法，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種去除掩膜版上的孔邊毛刺的方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種去除掩膜版上的孔邊毛刺的方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S1，加工盲孔：在掩膜版的對應(yīng)位置加工盲孔；

步驟S2，盲孔注蠟：將熔融的熱蠟滴入到盲孔中，靜置冷卻后鏟除盲孔上多余的蠟；

步驟S3，表面研磨：將注蠟完成的掩膜版上機整體進(jìn)行打磨，去除盲孔周邊打孔時翹起的毛刺；

步驟S4，加熱溶蠟：將打磨好的掩膜版進(jìn)行加熱，用加熱后的溶劑對盲孔進(jìn)行沖洗。

優(yōu)選的，在步驟S1中，將盲孔中的碎屑用高流速的氣流吹出，清理孔中的碎屑。

優(yōu)選的，在步驟S2中，蠟采用熔點在102℃-115℃的聚乙烯蠟。

優(yōu)選的，在步驟S2中，進(jìn)行鏟除多余的蠟時，蠟留距離掩膜版基版表面高度1-2mm的余量。

優(yōu)選的，在步驟S3中，采用粗磨和精磨分兩次進(jìn)行打磨，打磨采用環(huán)境溫度控制在5℃-15℃之間。

優(yōu)選的，在步驟S4中，掩膜版放入注入甲苯或二甲苯溶劑的加熱皿中，加熱皿放入水浴鍋中進(jìn)行加熱，保持水浴溫度在80℃-90℃，將蠟進(jìn)行溶解。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：

本發(fā)明通過在掩膜版上開盲孔，再向盲孔中注蠟的方式，對盲孔進(jìn)行填塞，保證掩模版在研磨前毛刺不翻入到盲孔中，克服現(xiàn)有加工盲孔中容易進(jìn)入雜物的困難，通過加熱以及溶劑沖洗的方式，可在外部研磨結(jié)束后，對盲孔內(nèi)部的蠟進(jìn)行溶解沖洗，實現(xiàn)盲孔內(nèi)部以及周邊的清潔，相比于傳統(tǒng)的直接研磨技術(shù)來說，加工的孔具有更好的質(zhì)量，直接從源頭杜絕了毛刺內(nèi)翻進(jìn)入孔洞的缺陷。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一種去除掩膜版上的孔邊毛刺的方法的制作流程圖。

具體實施方式