[發(fā)明專利]一種全光譜水質(zhì)檢測(cè)中窗口誤差校正的測(cè)量方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011544541.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112730287A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張南;汪升森;楊劍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 明石創(chuàng)新(煙臺(tái))微納傳感技術(shù)研究院有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/31 | 分類號(hào): | G01N21/31;G01N21/27 |
| 代理公司: | 北京中濟(jì)緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 楊樂(lè) |
| 地址: | 264006 山東省煙臺(tái)市經(jīng)濟(jì)*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光譜 水質(zhì) 檢測(cè) 窗口 誤差 校正 測(cè)量方法 裝置 | ||
本發(fā)明為一種全光譜水質(zhì)檢測(cè)中窗口誤差校正的測(cè)量方法及裝置,屬于水質(zhì)檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,將全光譜水質(zhì)檢測(cè)中窗口誤差校正的測(cè)量分為第一次測(cè)量和第二次測(cè)量,將兩次測(cè)量數(shù)據(jù)求差,計(jì)算出待測(cè)溶液濃度。本發(fā)明能夠消除窗口污染對(duì)于全光譜水質(zhì)檢測(cè)中數(shù)據(jù)測(cè)量的誤差,提高全光譜水質(zhì)檢測(cè)的準(zhǔn)確度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于水質(zhì)檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種全光譜水質(zhì)檢測(cè)中窗口誤差校正的測(cè)量方法及裝置。
背景技術(shù)
全光譜水質(zhì)檢測(cè)儀與傳統(tǒng)的化學(xué)試劑測(cè)量水質(zhì)的方法相比,具有檢測(cè)速度快、沒(méi)有二次污染等特點(diǎn),被越來(lái)越多的應(yīng)用在水質(zhì)監(jiān)測(cè)中。在全光譜水質(zhì)檢測(cè)儀利用光譜吸收度測(cè)量來(lái)檢驗(yàn)水質(zhì)的過(guò)程中,光路與待測(cè)水質(zhì)接觸的窗口會(huì)由于窗口表面附著的微粒和微生物等物質(zhì),會(huì)對(duì)光譜吸收度產(chǎn)生影響,進(jìn)而會(huì)造成測(cè)量誤差?,F(xiàn)有的全光譜水質(zhì)檢測(cè)儀一般具有自動(dòng)清洗功能以維持水質(zhì)檢測(cè)的精度,自動(dòng)清洗功能一般數(shù)小時(shí)或數(shù)天運(yùn)行一次,但是在自動(dòng)清洗的間隔時(shí)間內(nèi),與待測(cè)水質(zhì)接觸的窗口表面仍然具有一定數(shù)量的微粒和微生物等物質(zhì),水質(zhì)檢測(cè)儀的測(cè)量精度仍會(huì)受到影響。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),提供一種全光譜水質(zhì)檢測(cè)中窗口誤差校正的測(cè)量方法及裝置,能夠有效解決上述問(wèn)題,能夠不受窗口污染的影響,精確測(cè)量待測(cè)溶液濃度,
一種全光譜水質(zhì)檢測(cè)中窗口誤差校正的測(cè)量方法,包括如下步驟:
步驟一:在第一窗口的第一測(cè)量位置測(cè)量并記錄吸收度A1,A1可以表示為公式1:
A1=KCL1+θ
公式1中,K為吸收系數(shù),指單位濃度物質(zhì)在單位光程長(zhǎng)度時(shí)的吸光度,C為待測(cè)溶液濃度,L1表示第一窗口位于第一測(cè)量位置狀態(tài)下與第二窗口之間的光程,θ表示由于窗口污染造成的吸收度測(cè)量偏差;
步驟二:將第一窗口沿光路方向移動(dòng)到第二測(cè)量位置測(cè)量并記錄吸收度A2,A2可以表示為公式2:
A2=KCL2+θ
公式2中,L2表示第一窗口位于第二次測(cè)量位置狀態(tài)下與第二窗口之間的光程。
步驟三:將公式2和公式3做差進(jìn)行計(jì)算后得到公式3:
A1-A2=KC(L1-L2)
步驟四:將公式3運(yùn)算,求取待測(cè)溶液濃度C的值。
一種全光譜水質(zhì)檢測(cè)窗口誤差校正裝置,所述誤差校正裝置包括光源部、接收部和連接部;所述光源部依靠所述連接部與所述接收部伸縮連接;
所述光源部包括第一窗口和光源;
所述接收部包括第二窗口和光譜儀;
所述光源、第一窗口、第二窗口以及光譜儀共線;所述第一窗口與所述第二窗口設(shè)置于所述光源與所述光譜儀之間。
優(yōu)選的,所述連接部包括不透光的空腔;所述空腔一端與所述光源部連通;所述空腔一端與所述連接部連通;所述連接部能夠伸縮。
優(yōu)選的,所述誤差校正裝置還包括伸縮機(jī)構(gòu);所述伸縮機(jī)構(gòu)與所述光源部或所述接收部固定連接。
優(yōu)選的,所述伸縮機(jī)構(gòu)為氣缸或液壓缸。
優(yōu)選的,所述誤差校正裝置還包括滑軌;所述光源部或接收部滑動(dòng)固定于所述滑軌上。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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