[發明專利]一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的集成設備和工藝

在審

• 申請號: 202011544481.4
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN112582504A
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發明（設計）人: 上官泉元;鄒開峰
• 申請（專利權）人: 常州比太科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/677
• 代理公司: 北京集智東方知識產權代理有限公司 11578
• 代理人: 吳倩

1.一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的集成設備，其特征在于，包括一體依次設置的TCO鍍膜腔(300)及光注入退火腔(400)，對應所述TCO鍍膜腔(300)及光注入退火腔(400)的輸送機構，以及設置在所述輸送機構上的用于硅片承載的載板。

2.根據權利要求1所述的一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的集成設備，其特征在于，所述TCO鍍膜腔(300)的進料端還設置有裝載真空腔(200)；所述光注入退火腔(400)的出料端還設置有卸載真空腔(500)。

3.根據權利要求2所述的一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的集成設備，其特征在于，所述裝載真空腔(200)的進料端還設置有硅片上料機構(100)；所述卸載真空腔(500)的出料端還設置有硅片下料機構(600)。

4.根據權利要求3所述的一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的集成設備，其特征在于，還具有載板回轉機構(700)，所述載板回轉機構(700)的進口端連通至所述硅片下料機構(600)，所述載板回轉機構(700)的出口端連通至所述硅片上料機構(100)，以用于將卸載硅片后的空載板由所述硅片下料機構(600)回轉至所述硅片上料機構(100)重復使用。

5.根據權利要求1-4所述的一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的集成設備，其特征在于，對應所述TCO鍍膜腔(300)及光注入退火腔(400)的所述輸送機構為鏈式傳輸機構，所述載板為平躺式載板。

6.根據權利要求1-4所述的一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的集成設備，其特征在于，所述光注入退火腔(400)內采用的入射光源的沿載板前進方向的長度由退火所需時間和載板的運行速度決定，入射光源的寬度與載板寬度一致并在垂直于載板運動方向覆蓋整個載板上的硅片。

7.一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的工藝，其特征在于，包括如下步驟：

S1.采用硅片上料機構(100)將經過非晶硅鍍膜后的硅片按照M×N的排列方式平放在平躺的載板上進行上料；

S2.上料后的載板由鏈式傳輸機構輸送進入裝載真空腔(200)，并在真空環境中將硅片加熱到100-300℃；

S3.載板進入TCO鍍膜腔(300)內，在硅片的表面進行TCO鍍膜；

S4.載板進入光注入退火腔(400)內，將經過TCO鍍膜的硅片進行光注入退火處理；光注入退火腔的工藝溫度為150-300℃，壓力為真空或大氣壓，工藝氣體為N₂、O₂、H₂、Ar中的一種或多種混合；

S5.載板進入卸載真空腔(500)內，回填到大氣壓力；

S6.采用硅片下料機構(600)將完成TCO鍍膜及光注入退火的硅片下料；

S7.空的載板經載板回轉機構(700)由硅片下料機構(600)回傳到上料端的硅片上料機構(100)。

8.根據權利要求7所述的一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的工藝，其特征在于，對于M×N規格的所述載板，M＝3-10，N＝6-12，且所述載板采用耐高溫材料、不銹鋼或者碳纖維板制備而成。

9.根據權利要求7所述的一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的工藝，其特征在于，步驟S3中，TCO鍍膜方式采用PVD或RPD，依次完成上鍍膜和下鍍膜；或者同時完成上鍍膜和下鍍膜，且所述載板在所述TCO鍍膜腔(300)內連續運行通過或按需短暫停留。

10.根據權利要求7所述的一種用于太陽能電池片鍍膜和光注入的工藝，其特征在于，步驟S4中，光注入退火工藝的入射光源采用平板可見光源，平板可見光源為平行放置若干日光燈或LED燈泡陣列排布，且入射光的強度達到太陽光強的2-10倍。