[發(fā)明專利]無磁不銹鋼表面激光熔覆無磁耐磨層及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011544350.6
• 申請日: 2020-12-23
• 公開（公告）號: CN112760638B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發(fā)明（設計）人: 葛源;鄭春園;戴凌杰;劉純;吳奇
• 申請（專利權）人: 熔創(chuàng)金屬表面科技（常州）有限公司
• 主分類號: C23C24/10
• 分類號: C23C24/10;C22C19/05;C22C32/00;C22C30/00;C22C29/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種無磁不銹鋼表面激光熔覆無磁耐磨層，其特征在于，包括：

過渡層，所述過渡層形成為與所述無磁不銹鋼表面相連的激光熔覆層，所述過渡層形成為鎳基無磁不銹鋼，所述過渡層包括以下質(zhì)量分數(shù)的元素：C 0.0～0.02％，Mo 8.0～10.0％，F(xiàn)e 0.5～0.7％，Mn 0.3～0.5％，Cr 17.0～24.0％，Si 0.2～0.5％，O 0.05～0.06％，N 0.05～0.15％，Al 0.0～0.03％，Ti 0.00～0.002％，Nb2.5～4.5％，其余為Ni；

第一無磁耐磨層，所述第一無磁耐磨層形成為設在所述過渡層背離所述無磁不銹鋼表面的一側且覆蓋所述過渡層的激光熔覆層，所述第一無磁耐磨層包括以下質(zhì)量分數(shù)的元素：W 25％～35％，C 2.3％～2.6％，Mo8.0％～10.0％，F(xiàn)e 0.75％～0.95％，Mn 0.3％～0.5％，Cr 1.0％～2.0％，Si 0.5％～2.0％，B 0.1％～1.0％，S 0.00002％～0.00003％，O0.015％～0.02％，N 0.1％～0.3％，Al 0.17％～0.3％，Ti 0.00％～0.01％，Nb 3.0％～4.0％，Ce 0.002％～0.005％，Re 0.001％～0.003％，其余為Ni；

第二無磁耐磨層，所述第二無磁耐磨層形成為設在所述第一無磁耐磨層背離所述過渡層的一側且覆蓋所述第一無磁耐磨層的激光熔覆層，所述第二無磁耐磨層包括以下質(zhì)量分數(shù)的元素，Ni 30％～40％，C 2.3％～2.6％，Mo8.0％～10.0％，F(xiàn)e 0.75％～0.95％，Mn0.3％～0.5％，Cr 1.0％～2.0％，Si 0.5％～2.0％，B 0.1％～1.0％，S 0.00002％～0.00003％，O 0.015％～0.02％，N 0.1％～0.3％，Al 0.17％～0.3％，Ti 0.00％～0.01％，Nb 3.0％～4.0％，Ce 0.002％～0.005％，Re 0.001％～0.003％，其余為W。

2.根據(jù)權利要求1所述的無磁不銹鋼表面激光熔覆無磁耐磨層，其特征在于，所述第一無磁耐磨層和所述第二無磁耐磨層的成分中都包含有球狀碳化鎢顆粒，碳化鎢顆粒為WC和/或W2C，且顆粒的直徑為40μm～160μm，顆粒的顯微硬度為HV2800～HV3200。

3.根據(jù)權利要求2所述的無磁不銹鋼表面激光熔覆無磁耐磨層，其特征在于，所述過渡層的熔覆厚度形成為1.0mm±0.1mm，所述第一無磁耐磨層和所述第二無磁耐磨層的厚度相同且均為1.15mm±0.35mm。

4.根據(jù)權利要求3所述的無磁不銹鋼表面激光熔覆無磁耐磨層，其特征在于，所述過渡層、所述第一無磁耐磨層、所述第二無磁耐磨層的兩側分別形成為激光熔覆起始線和激光熔覆終止線，且激光熔覆起始線和激光熔覆終止線與所述無磁不銹鋼表面的夾角均為a＝45°。

5.根據(jù)權利要求4所述的無磁不銹鋼表面激光熔覆無磁耐磨層，其特征在于，所述無磁不銹鋼表面的一部分形成為斜坡，所述斜坡的傾斜角度為b，且0＜b≤45°以使所述激光熔覆無磁耐磨層在所述無磁不銹鋼表面平緩過渡。

6.根據(jù)權利要求5所述的無磁不銹鋼表面激光熔覆無磁耐磨層，其特征在于，所述無磁不銹鋼形成為P550高氮鉻錳無磁不銹鋼。