[發明專利]一種估算大豆冠層同化CO2

在審

• 申請號: 202011544104.0
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN112798589A
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: 馬春梅;龔振平;閆超;董守坤;呂曉晨;李金旺;王聰
• 申請（專利權）人: 東北農業大學
• 主分類號: G01N21/84
• 分類號: G01N21/84;G06F17/11
• 代理公司: 北京彭麗芳知識產權代理有限公司 11407
• 代理人: 彭麗芳

1.一種估算大豆冠層同化CO₂速度的方法，其特征在于：包括如下步驟：

S1、測定冠層內光合有效輻射強度(PAR)：

采用大田冠層切片法，基于可持續自動計數光合有效輻射記錄儀測定冠層內光合有效輻射強度；其中，傳感器探頭的放置位置分別為：冠層上方0.15m處，生長點處、莖稈中部和子葉痕處；

S2、測定凈光合速率(Pn)：

S21、將預測定的大豆盆栽置于底座內，然后在底座上方罩設一氣體收集箱，并通過軟管依次將氣體收集箱的出氣孔、氣泵、干燥器、CO₂氣體分析儀及氣體收集箱的進氣孔連接，構成封閉的氣體循環系統，其中，氣體收集箱下端插入底座的水槽，從而實現底座的密封；

S22、以自然光為對照，利用CO₂分析儀測定大豆植株吸收CO₂速度，30秒后讀取氣體收集箱中CO₂濃度為測定初始值，然后每3分鐘讀取箱內CO₂的濃度，測定12分鐘，同時測量葉面積，計算大豆光合速率；

S3、測定葉面積指數：

采用大田冠層切片法，將上、中和下層的莖、葉、柄的生物量分類歸集到一起，選取有代表性鮮葉片用打孔器打孔，采用打孔法測定每層葉面積，計算葉面積指數；

S4、構建大豆凈光合速率(Pn)與光合有效輻射(PAR)擬合方程，將冠層上方與生長點處光合有效輻射的平均值作為冠層上層的平均光合有效輻射，中層為生長點處與莖稈中部的平均光合有效輻射，下層為莖稈中部與子葉痕處的平均光合有效輻射，將上、中、下三層的平均光合有效輻射代入擬合方程關系式中，得到大豆冠層平均凈光合速率；

S5、將大豆冠層內平均凈光合速率與葉面積指數相乘即得單位地面面積冠層同化CO₂速度。

2.如權利要求1所述的一種估算大豆冠層同化CO₂速度的方法，其特征在于：所述底座由不銹鋼材質制成，底部封閉。

3.如權利要求1所述的一種估算大豆冠層同化CO₂速度的方法，其特征在于：所述氣體收集箱由透明的有機玻璃制成，呈長方體結構，進氣孔的位置在箱體一側的中部偏上，出氣孔的位置在對側中部偏下。

4.如權利要求1所述的一種估算大豆冠層同化CO₂速度的方法，其特征在于：所述底座內部裝有空調制冷管，用于在測定時降溫。