[發明專利]自動曝光控制系統及自動曝光控制方法

有效

• 申請號: 202011543485.0
• 申請日: 2020-12-23
• 公開（公告）號: CN112690811B
• 公開（公告）日: 2022-06-03
• 發明（設計）人: 黃翌敏;何承林
• 申請（專利權）人: 上海奕瑞光電子科技股份有限公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 施婷婷

本發明提供一種自動曝光控制系統及自動曝光控制方法，包括：計算機，通過路由器與平板探測器通訊；平板探測器，執行自動曝光控制及圖像采集，并發送閘斷控制信號及采集到的信息；高壓控制器，與平板探測器通訊，基于閘斷控制信號關閉高壓發生裝置；球管，基于高壓發生裝置發出的高壓信號發出X射線。本發明采用無線方式傳輸閘斷控制信號，應用場景不限；基于平板探測器的曝光輻照射野區域的曝光劑量檢測實現自動曝光控制并實時統計或者預測曝光結束時的曝光劑量，結構簡單、成本低，可有效避免線路延遲等問題造成的曝光劑量誤差；同時采圖周期短、操作復雜度低。

技術領域

本發明涉及平板探測領域，特別是涉及一種自動曝光控制系統及自動曝光控制方法。

背景技術

平板探測器是上個世紀開始誕生的X射線影像新型檢測技術，以成像速度快、分辨率高等特點著稱，廣泛應用于醫療檢測、無損檢測、安檢、反恐等領域。目前，傳統AEC(Automatic Exposure Control，自動曝光控制)均借助電離室(主要有氣態電離室、固態電離室兩種)進行曝光劑量的檢測；隨著曝光劑量的增加，電離室輸出信號的電壓值線性增加。高壓發生器接收電離室的輸出信號，對該信號的電壓值實時檢測，當該電壓值達到設定閾值電壓時，高壓發生器閘斷曝光，但是從電離室輸出信號達到設定閾值到高壓發生器閘斷存在線路的延時，當高壓發生器閘斷時實際曝光劑量已經超出了預設曝光劑量，導致曝光劑量存在誤差，直接影響圖像質量。

電離室設置于平板探測器的表面，且電離室需要通過專用線纜與高壓發生器連接，結構復雜度和成本均較高。為了克服以電離室方式進行自動曝光控制帶來的結構復雜、成本高等問題，現有技術中還提出了一些不需要電離室的自動曝光控制方法，但是均存在一定的曝光劑量誤差問題；同時，探測器仍然需通過專用線纜將閘斷信號傳遞給高壓發生器，限制了數字自動曝光控制的使用場景。

因此，如何確保曝光劑量準確性、簡化結構復雜度、降低成本，同時拓展應用場景，已成為本領域技術人員亟待解決的問題之一。

發明內容

鑒于以上所述現有技術的缺點，本發明的目的在于提供一種自動曝光控制系統及自動曝光控制方法，用于解決現有技術中自動曝光控制應用場景受限、成本高、結構復雜、曝光誤差大等問題。

為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種自動曝光控制系統，所述自動曝光控制系統至少包括：

計算機、路由器、平板探測器、高壓控制器、高壓發生裝置及球管；

所述計算機通過所述路由器與所述平板探測器通訊，向所述平板探測器發送控制指令并接收所述平板探測器采集到的信號；

所述平板探測器執行自動曝光控制及圖像采集，并發送閘斷控制信號及采集到的信息；

所述高壓控制器接收所述平板探測器發出的閘斷控制信號，基于所述閘斷控制信號關閉所述高壓發生裝置；

所述球管連接所述高壓發生裝置，基于所述高壓發生裝置發出的高壓信號產生X射線。

可選地，所述平板探測器包括探測面板及自動曝光控制模塊；所述探測面板對X射線進行檢測并轉換為電信號；所述自動曝光控制模塊連接所述探測面板的輸出端，基于所述探測面板的輸出信號判斷曝光結束時的曝光劑量，并觸發閘斷控制信號。

可選地，所述平板探測器包括探測面板及自動曝光控制模塊；所述探測面板對X射線進行檢測并轉換為電信號；所述自動曝光控制模塊連接所述探測面板的輸出端，基于所述探測面板的輸出信號實時判斷曝光劑量，并觸發閘斷控制信號。

更可選地，所述自動曝光控制模塊包括檢測單元及邏輯比較單元，所述檢測單元基于曝光劑量率及信號傳輸鏈路延遲時長預測曝光結束時的曝光劑量；所述邏輯比較單元連接所述檢測單元的輸出端，當所述檢測單元預測的曝光結束時的曝光劑量達到曝光劑量閾值時，觸發所述閘斷控制信號。