[發(fā)明專利]提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011540909.8 | 申請日: | 2020-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN112636557B | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉曉;王雨桐;崔鶴松;黃守道;胡芳 | 申請(專利權(quán))人: | 湖南大學(xué) |
| 主分類號: | H02K41/03 | 分類號: | H02K41/03;H02K1/27;H02K1/16;H02K3/04 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283 | 代理人: | 周春雨 |
| 地址: | 410082 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 提高 直線 磁場 調(diào)制 電機(jī) 功率因數(shù) 方法 | ||
1.一種提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法,其特征在于,通過減小電機(jī)的繞組系數(shù)和降低氣隙磁密的諧波含量來減小電機(jī)的q軸電感,并采用兩側(cè)面為不對稱曲面的梯形調(diào)磁塊來降低所述氣隙磁密的諧波含量,進(jìn)而提高電機(jī)的功率因數(shù),所述梯形調(diào)磁塊的上邊長為8mm,下邊長為4.6mm,左腰與梯形中位線的交點(diǎn)距離等腰梯形中心的距離為3.1579-4mm,右腰與梯形中位線的交點(diǎn)距離等腰梯形中心的距離為1.5-2mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法,其特征在于,將電機(jī)永磁定子的永磁體設(shè)置為Halbach永磁陣列,以使氣隙磁密更接近正弦,從而降低所述氣隙磁密的諧波含量。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法,其特征在于,將所述Halbach永磁陣列的永磁比設(shè)置為0.5-0.6,所述永磁比為一個法向永磁體長度與永磁體極距的比值。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法,其特征在于,通過將電機(jī)繞組的槽數(shù)設(shè)置為12槽,將電機(jī)的等效電樞繞組的極對數(shù)設(shè)置為1對、2對或者4對來減小所述繞組系數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法,其特征在于,通過將永磁體極對數(shù)設(shè)置在14對至17對之間來減小所述繞組系數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法,其特征在于,將所述等效電樞繞組的極對數(shù)設(shè)置為2對,所述永磁體極對數(shù)設(shè)置為17對。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法,其特征在于,通過采用半口槽形式的繞線槽來降低所述氣隙磁密的諧波含量。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的提高直線磁場調(diào)制電機(jī)功率因數(shù)的方法,其特征在于,所述半口槽的槽口寬度為槽體寬度的83-93%。
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