[發明專利]硅片背封的制作方法在審
| 申請號: | 202011540641.8 | 申請日: | 2020-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN112670162A | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發明(設計)人: | 王柯;程劉鎖;閆玉琴;范曉;王函 | 申請(專利權)人: | 華虹半導體(無錫)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴廣志 |
| 地址: | 214028 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅片 制作方法 | ||
本申請涉及半導體制造技術領域,具體涉及一種硅片背封的制作方法。所述硅片背封的制作方法包括以下步驟:確定硅片的110晶向;確定支撐腳支撐所述硅片的支撐方向;根據所述硅片的110晶向,確定所述硅片的(110)晶面;旋轉所述硅片,使得所述支撐腳的支撐方向,偏離所述硅片的(110)晶面和110晶向;在旋轉后的所述硅片背面生長外延層,形成所述硅片背封。本申請提供的硅片背封的制作方法,可以解決相關技術中,在晶片背面制作的背封,其產生的應力增大了晶片的破片概率的問題。
技術領域
本申請涉及半導體制造技術領域,具體涉及一種硅片背封的制作方法。
背景技術
由于CMOS技術和工藝的迅速發展,在圖像傳感器領域里,CIS(CMOS ImageSensor,互補金屬氧化物半導體圖像傳感器)器件,即CMOS圖像傳感器得到了廣泛地應用。CIS器件的像素區包括若干呈陣列排布的光電二極管,主要通過光電二極管實現光電轉換。
相關技術中,為了減小器件出現白色像素的問題,通常會在器件像素區的外延層上表面重摻雜硼離子,此工藝前需要在晶片背面沉淀絕緣薄膜,即硅片,以保護晶片背部。
但是在晶片背面制作的背封,其產生的應力增大了晶片的破片概率,不利于節約芯片制造成本。
發明內容
本申請提供了一種硅片背封的制作方法,可以解決相關技術中,在晶片背面制作的背封,其產生的應力增大了晶片的破片概率的問題。
為了解決上述技術問題,本申請提供一種硅片背封的制作方法,所述硅片背封的制作方法包括以下步驟:
確定硅片的110晶向;
確定支撐腳支撐所述硅片的支撐方向;
根據所述硅片的110晶向,確定所述硅片的(110)晶面;
旋轉所述硅片,使得所述支撐腳的支撐方向,偏離所述硅片的(110)晶面和110晶向;
在旋轉后的所述硅片背面生長外延層,形成所述硅片背封。
可選的,所述確定硅片的110晶向的步驟包括:
確定所述硅片的晶向標志切口指向所表征的晶向;
根據所述晶向標志切口指向所表征的晶向,確定所述硅片的110晶向。
可選的,若所述晶向標志切口指向所表征的晶向,為100晶向;根據所述100晶向,確定所述100晶向任意一側45°位置的晶向為所述硅片的110晶向。
可選的,所述晶向標志切口指向所表征的晶向,為所述硅片的110晶向。
可選的,所述晶向標志切口為平底面切口或者V型切口。
可選的,所述根據所述硅片的110晶向,確定所述硅片的(110)晶面的步驟,包括:
確定垂直于所述硅片的110晶向的晶面為所述硅片的(110)晶面。
可選的,所述旋轉所述硅片,使使得所述支撐腳的支撐方向,偏離所述硅片的(110)晶面和110晶向的步驟,包括:
旋轉所述硅片30°至60°,使得所述支撐腳支撐所述硅片的位置,偏離所述硅片的(110)晶面和110晶向。
本申請技術方案,至少包括如下優點:本申請實施例通過確定硅片的110晶向;確定支撐腳支撐所述硅片的支撐方向;根據所述硅片的110晶向,確定所述硅片的(110)晶面;旋轉所述硅片,使得所述支撐腳的支撐方向,偏離所述硅片的(110)晶面和110晶向;在旋轉后的所述硅片背面生長外延層,形成所述硅片背封。能夠使得支撐腳的支撐方向避開硅片的解理面,從而避免在硅片的背面生長外延層的過程中,因支撐腳支撐硅片解理面,而導致硅片背面外延層生長不均勻,最終導致硅片破片的問題。
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H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





