[發(fā)明專利]一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置

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• 申請日: 2020-12-23
• 公開（公告）號: CN112691993A
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設計）人: 李明;孫健;段志成
• 申請（專利權）人: 張家港市港一超聲電器有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B13/00;G10K11/16
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置，包括安裝箱體(1)，其特征在于：所述安裝箱體(1)頂面通過第一銜接機構(2)連接有隔音件(3)，且所述第一銜接機構(2)設置于隔音件(3)與安裝箱體(1)連接處，所述安裝箱體(1)頂面中部挖設有安裝槽(4)，所述安裝槽(4)內(nèi)腔通過第二銜接機構(5)連接有防護機構(6)，所述防護機構(6)內(nèi)腔設置有超聲波清洗器本體(7)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置，其特征在于：所述隔音件(3)包括隔音板(8)與吸音海綿層(9)，所述隔音板(8)通過第一銜接機構(2)設置于安裝箱體(1)頂面，所述隔音板(8)內(nèi)填充有吸音海綿層(9)。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置，其特征在于：所述第一銜接機構(2)包括第一銜接槽(10)與第一銜接塊(11)，所述第一銜接槽(10)對稱挖設于安裝箱體(1)兩側中部，所述第一銜接塊(11)對稱設置于隔音板(8)兩側中部。

4.根據(jù)權利要求3所述的一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置，其特征在于：相鄰的兩個所述第一銜接槽(10)與第一銜接塊(11)為一組，并為卡合連接。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置，其特征在于：所述防護機構(6)包括防護框架(12)、放置槽(13)、降噪海綿塊(14)與凹槽(15)，所述防護框架(12)通過第二銜接機構(5)設置于安裝槽(4)內(nèi)腔，所述防護框架(12)頂面挖設有放置槽(13)，所述放置槽(13)內(nèi)腔設置有降噪海綿塊(14)，所述防護框架(12)頂面中部挖設有凹槽(15)。

6.根據(jù)權利要求5所述的一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置，其特征在于：所述降噪海綿塊(14)為中空型結構，并與放置槽(13)內(nèi)腔卡合連接。

7.根據(jù)權利要求5所述的一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置，其特征在于：所述第二銜接機構(5)包括第二銜接槽(16)與第二銜接塊(17)，所述第二銜接槽(16)對稱挖設于放置槽(13)內(nèi)腔兩側中部，所述第二銜接塊(17)對稱設置于防護框架(12)兩側中部。

8.根據(jù)權利要求5所述的一種環(huán)保降噪的超聲波清洗裝置，其特征在于：相鄰的兩個所述第二銜接塊(17)與第二銜接槽(16)為一組，并為卡合連接。