[發明專利]一種微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層的制備方法有效
| 申請號: | 202011535695.5 | 申請日: | 2020-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN112625578B | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發明(設計)人: | 姚伯龍;王宇通;陳歡;倪亞洲;程廣鴻;王海潮;張晉瑞 | 申請(專利權)人: | 江南大學 |
| 主分類號: | C09D175/04 | 分類號: | C09D175/04;C08G18/12;C08G18/28;C08G18/44;C08G18/66;C08G18/32 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 時旭丹;張仕婷 |
| 地址: | 214122 江蘇省無錫市濱湖區*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 納米 二氧化硅 聚氨酯 耐磨 疏水 涂層 制備 方法 | ||
1.一種微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層的制備方法,其特征在于步驟如下:
(1)NCO封端聚氨酯的合成:
a、先將聚碳酸酯二醇PCDL及1,4-丁二醇BDO放在真空干燥烘箱中干燥以除去原料中的水分;
b、將干燥除水后的聚碳酸酯二醇PCDL和1,4-丁二醇BDO加入到帶有氮氣、機械攪拌裝置的燒瓶中,再將二異氰酸酯和催化劑添加到燒瓶中,機械攪拌,控溫反應時間;反應過程中加入溶劑A調節體系黏度,制得NCO封端聚氨酯;
(2)含氟FPU預聚物的合成:降溫,向步驟(1)所述反應器中開始滴加擴鏈劑反應;再滴加長支鏈氟醇反應,得到含氟FPU預聚物;
所述擴鏈劑為三羥甲基丙烷TMP;所述長支鏈氟醇為全氟己基己醇和/或全氟十醇;
(3)涂覆前板材預處理:將玻璃板放入丙酮中超聲清洗,隨后用溶劑B沖洗干凈,干燥后放入濃硫酸和過氧化氫的混合溶液中浸泡,取出用去離子水沖洗,得到羥基化的玻璃基板;
(4)微納米二氧化硅基板的制備:將白炭黑和二氧化硅加入到溶劑C中,室溫下攪拌超聲分散,得到二氧化硅懸浮液,在步驟(3)所得玻璃基板上滴涂,表干后再固化,制得微納米二氧化硅基板;
(5)耐磨超疏水涂層的制備:取步驟(2)所得含氟FPU預聚物用溶劑D稀釋,將稀釋液涂覆在步驟(4)所得微納米二氧化硅基板上,表干之后放入烘箱中烘,制得微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層樣片。
2.根據權利要求1所述微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層的制備方法,其特征在于:步驟(1)所述催化劑為二月桂酸二丁基錫和/或辛酸亞錫;
所述二異氰酸酯為甲苯二異氰酸酯TDI、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯MDI及異佛爾酮二異氰酸酯IPDI中的至少一種;
所述溶劑A為丙酮、丁酮及N,N-二甲基乙酰胺中的至少一種。
3.根據權利要求1所述微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層的制備方法,其特征在于:步驟(3)中所述溶劑B為乙醇、乙二醇及異丙醇中的至少一種;步驟(4)所述溶劑C具體為乙二醇、乙酸乙酯及乙二醇丁醚中的至少一種;步驟(5)所述溶劑D為乙酸乙酯和/或丙二醇乙醚。
4.根據權利要求1所述微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層的制備方法,其特征在于步驟(1)具體為:
a、先將聚碳酸酯二醇及1,4-丁二醇放在50-80℃的真空干燥烘箱中干燥1-2h,以除去原料中的水分;
b、將9-13g經干燥除水的聚碳酸酯二醇和1-1.5g 1,4-丁二醇加入到帶有氮氣、機械攪拌裝置的燒瓶中,再將11.48-13.32g二異氰酸酯和0.01-0.03g催化劑添加到燒瓶中;機械攪拌器的轉速控制在300-400r/min,70-85℃反應2-3h;反應過程中加入溶劑A調節體系黏度至1000-1300mPa·s,制得NCO封端聚氨酯。
5.根據權利要求1所述微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層的制備方法,其特征在于步驟(2)具體為:降溫至60-75℃,向上述反應器中開始滴加2-2.68g擴鏈劑,反應2-3h;保持溫度不變,再滴加20-22.41g長支鏈氟醇,反應2-3h,得到含氟FPU預聚物。
6.根據權利要求1所述微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層的制備方法,其特征在于步驟(3)具體為:將玻璃板放入丙酮中,20KHz超聲清洗1-2h,隨后用溶劑B沖洗干凈,干燥后放入含有體積比為70%、濃度為98%的濃硫酸和體積比為30%、濃度為9.8mol/L過氧化氫混合溶液中,在60-80℃下浸泡1-2h;拿出后用去離子水沖洗,得到羥基化的玻璃基板。
7.根據權利要求1所述微納米二氧化硅/含氟聚氨酯耐磨超疏水涂層的制備方法,其特征在于步驟(4)具體為:將1-2g白炭黑和1-2g的二氧化硅加入到20-25g的溶劑C中,室溫下攪拌1-2h,40KHz超聲分散20-40min,得到二氧化硅懸浮液;在步驟(3)所得玻璃基板上滴涂,表干后在100-120℃下固化1-2h,制得微納米二氧化硅基板。
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