[發(fā)明專利]顯示裝置、顯示面板及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011535526.1 | 申請日: | 2020-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN112596294B | 公開(公告)日: | 2023-10-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 邸云萍 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/1333;G02F1/133 |
| 代理公司: | 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438 | 代理人: | 王輝;闞梓瑄 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 顯示 面板 及其 制造 方法 | ||
本公開提供一種顯示裝置、顯示面板及其制造方法,涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域。該顯示面板包括陣列基板、彩膜基板和背光模組,其中:陣列基板包括襯底和光電感應(yīng)器件,襯底具有指紋識別區(qū),光電感應(yīng)器件位于指紋識別區(qū)內(nèi);彩膜基板與陣列基板對盒設(shè)置;背光模組位于彩膜基板背離陣列基板的一側(cè),且具有背光源,背光源發(fā)出的光線能穿過指紋識別區(qū)。本公開的顯示面板可提高指紋檢測精度。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種顯示裝置、顯示面板及其制造方法。
背景技術(shù)
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,in-cell式LCD(Liquid Crystal Display,液晶顯示器)顯示面板,因其具有體積小、厚度薄、功耗低等優(yōu)點,獲得了廣泛的應(yīng)用。然而,現(xiàn)有顯示面板接收到的感應(yīng)信號的信號量較小,指紋檢測精度較低。
需要說明的是,在上述背景技術(shù)部分公開的信息僅用于加強(qiáng)對本公開的背景的理解,因此可以包括不構(gòu)成對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
發(fā)明內(nèi)容
本公開的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種顯示裝置、顯示面板及其制造方法,可提高指紋檢測精度。
根據(jù)本公開的一個方面,提供一種顯示面板,包括:
陣列基板,包括襯底和光電感應(yīng)器件,所述襯底具有指紋識別區(qū),所述光電感應(yīng)器件位于所述指紋識別區(qū)內(nèi);
彩膜基板,與所述陣列基板對盒設(shè)置;
背光模組,位于所述彩膜基板背離所述陣列基板的一側(cè),且具有背光源,所述背光源發(fā)出的光線能穿過所述指紋識別區(qū)。
在本公開的一種示例性實施例中,所述陣列基板還包括:
驅(qū)動層,設(shè)于所述襯底與所述光電感應(yīng)器件之間,且包括感應(yīng)電路,所述感應(yīng)電路至少部分位于所述指紋識別區(qū)內(nèi),且與所述光電感應(yīng)器件連接。
在本公開的一種示例性實施例中,所述陣列基板還包括:
像素電極,位于所述光電感應(yīng)器件背離所述襯底的一側(cè);
所述驅(qū)動層還包括像素電路,所述像素電路與所述像素電極連接。
在本公開的一種示例性實施例中,所述感應(yīng)電路和所述像素電路均包括多個呈陣列分布的晶體管,所述感應(yīng)電路的晶體管為第一晶體管,所述像素電路的晶體管為第二晶體管;
所述陣列基板還包括:
第一遮光層,位于所述驅(qū)動層背離所述襯底的一側(cè),且包括與各所述第一晶體管一一對應(yīng)的多個呈陣列分布的第一遮光單元以及與各所述第二晶體管一一對應(yīng)的多個呈陣列分布的第二遮光單元,所述第一遮光單元和與之對應(yīng)的第一晶體管在所述襯底上的正投影至少部分重合,所述第二遮光單元和與之對應(yīng)的第二晶體管在所述襯底上的正投影至少部分重合。
在本公開的一種示例性實施例中,所述陣列基板還包括:
第二遮光層,位于所述驅(qū)動層與所述襯底之間,且包括與各所述第一晶體管一一對應(yīng)的多個呈陣列分布的第三遮光單元以及與各所述第二晶體管一一對應(yīng)的多個呈陣列分布的第四遮光單元,所述第三遮光單元和與之對應(yīng)的第一晶體管在所述襯底上的正投影至少部分重合,所述第四遮光單元和與之對應(yīng)的第二晶體管在所述襯底上的正投影至少部分重合。
在本公開的一種示例性實施例中,所述晶體管包括:
有源層,設(shè)于所述襯底靠近所述第一遮光層的一側(cè);
柵絕緣層,覆蓋于所述有源層;
柵極,設(shè)于所述柵絕緣層背離所述襯底的一側(cè);
層間介質(zhì)層,覆蓋于所述柵極和所述柵絕緣層;
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





