[發(fā)明專(zhuān)利]一種常見(jiàn)毒素識(shí)別系統(tǒng)及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011534880.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112666094A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉毅;劉強(qiáng);劉航;張曉清;寧海波 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京匯豐隆經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/25 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/25;G01N21/64;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 常見(jiàn) 毒素 識(shí)別 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種常見(jiàn)毒素識(shí)別系統(tǒng),其特征在于,包括:
一光譜發(fā)生模塊,用于發(fā)生不同波長(zhǎng)的光譜;
一光譜采集模塊,與所述光譜發(fā)生模塊連接,用于實(shí)時(shí)采集樣品物質(zhì)的熒光樣本;
一光譜分析平臺(tái),與所述光譜采集模塊連接,用于管理和分析實(shí)驗(yàn)過(guò)程;
一特征光譜模型數(shù)據(jù)庫(kù),與所述光譜分析平臺(tái)連接,用于對(duì)樣品物質(zhì)進(jìn)行分類(lèi)查詢(xún),其包含特征毒素表征信息,所述特征毒素表征信息包括:顆粒特征信息和生物熒光特征信息;
一光譜模型識(shí)別匹配模塊,分別與所述特征光譜模型數(shù)據(jù)庫(kù)和所述光譜分析平臺(tái)連接,用于區(qū)分物質(zhì)類(lèi)別;
一特征光譜數(shù)學(xué)模型模塊,與所述光譜分析平臺(tái)連接,用于提供特征光譜數(shù)學(xué)模型,其中所述特征光譜數(shù)學(xué)模型包括數(shù)學(xué)校正模型;
一結(jié)果輸出模塊,與所述光譜分析平臺(tái)連接,用于識(shí)別結(jié)果進(jìn)行輸出顯示。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述光譜發(fā)生模塊包括:發(fā)射光譜儀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其特征在于,所述光譜分析平臺(tái)的前端為用戶(hù)操作管理界面,其包括:
一管理設(shè)置模塊,包括用戶(hù)登錄、權(quán)限設(shè)置、設(shè)備選擇;
一手動(dòng)檢測(cè)模塊,包括目標(biāo)波長(zhǎng)設(shè)置、樣品選擇設(shè)置、樣品濃度設(shè)置;
一自動(dòng)檢測(cè)模塊,包括波長(zhǎng)檢測(cè)設(shè)定和范圍檢測(cè)設(shè)定;以及
一歷史數(shù)據(jù)查詢(xún)模塊,包括起始時(shí)間設(shè)置、結(jié)束時(shí)間設(shè)置、樣品選擇、樣品濃度設(shè)置、光譜類(lèi)型選擇。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng),其特征在于,所述光譜分析平臺(tái)還包括:
一光譜原始數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)庫(kù),與所述光譜采集模塊連接,用于保存實(shí)時(shí)采集的樣品物質(zhì)熒光樣本,其中所述樣品物質(zhì)熒光樣本為未經(jīng)過(guò)處理或簡(jiǎn)化的光譜數(shù)據(jù);
一光譜數(shù)據(jù)預(yù)處理模塊,用于對(duì)所述光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理;
一光譜數(shù)據(jù)特征提取算法模塊,用于提供對(duì)預(yù)處理后的光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行特征提取的算法信息;
一提取毒素的特征識(shí)別譜算法模塊,用于提供光譜匹配算法信息。
5.一種常見(jiàn)毒素識(shí)別方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:待測(cè)量毒素樣品在光譜發(fā)生模塊通過(guò)激發(fā)光激發(fā)誘導(dǎo)產(chǎn)生熒光信號(hào);
S2:光譜采集模塊實(shí)時(shí)采集樣品物質(zhì)的熒光信號(hào)的光譜數(shù)據(jù),并作為熒光樣本保存到光譜原始數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)庫(kù)中;
S3:光譜數(shù)據(jù)預(yù)處理模塊對(duì)采集的熒光樣本的光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行預(yù)處理后,通過(guò)光譜數(shù)據(jù)特征提取算法模塊對(duì)光譜數(shù)據(jù)特征進(jìn)行提取,其中,所述預(yù)處理包括:異常數(shù)據(jù)處理、噪聲消除及其他處理;
S4:將提取的特征光譜數(shù)據(jù)先在特征光譜模型數(shù)據(jù)庫(kù)進(jìn)行分類(lèi)查詢(xún),再通過(guò)光譜模型識(shí)別匹配模塊進(jìn)行匹配識(shí)別;
S5:光譜分析平臺(tái)獲取匹配識(shí)別結(jié)果,并通過(guò)結(jié)果輸出模塊顯示給用戶(hù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述異常數(shù)據(jù)處理的方法具體為:通過(guò)基于統(tǒng)計(jì)學(xué)的一元離群點(diǎn)的檢測(cè)方法,求取所有光譜數(shù)據(jù)的均值和方差,進(jìn)而得到標(biāo)準(zhǔn)差,然后將所有光譜數(shù)據(jù)與均值做對(duì)比,若任一光譜數(shù)據(jù)距離均值大于M倍標(biāo)準(zhǔn)差,則認(rèn)定此數(shù)據(jù)為異常數(shù)據(jù),其中,M為預(yù)設(shè)的閾值。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述噪聲消除的方法具體為:通過(guò)采用信號(hào)平滑的方法消除噪聲,并通過(guò)多次測(cè)量取平均值以降低噪聲提高信噪比,其中,信號(hào)平滑的方法為Savitzky2Golay卷積平滑法。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述其他處理具體為:通過(guò)其他算法消除光譜多重共線(xiàn)性、吸光度非線(xiàn)性、基線(xiàn)變動(dòng)和附加散射變動(dòng)等的影響,其中,所述其他算法包括:
快速傅里葉變換,其通過(guò)將原始光譜數(shù)據(jù)分解成許多不同頻率的正弦波,然后將這些正弦波疊加求和。
小波變換,其通過(guò)將原始光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行信號(hào)變換后,在小波域進(jìn)行過(guò)濾和壓縮處理,然后再重構(gòu)回原始域進(jìn)行光譜濾噪;
微分變換,其通過(guò)對(duì)光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行數(shù)學(xué)模擬和計(jì)算不同階數(shù)的微分,來(lái)確定光譜曲線(xiàn)的彎曲點(diǎn)、最大及最小反射率的波長(zhǎng)位置。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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