[發明專利]一種性能穩定的陶瓷釉料及其制備方法

在審

• 申請號: 202011534138.1
• 申請日: 2020-12-23
• 公開（公告）號: CN112521010A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 涂祈林
• 申請（專利權）人: 江西亞航科技有限公司
• 主分類號: C03C8/20
• 分類號: C03C8/20
• 代理公司: 南昌賢達專利代理事務所(普通合伙) 36136
• 代理人: 金一嫻

1.一種性能穩定的陶瓷釉料，其特征在于，包括以下重量份的原料：石英10～18份、左云土10～18份、熔塊5～15份、改性納米二氧化硅復合氧化石墨烯3～10份、硼酸3～10份、硅酸鋯3～10份、方解石2～6份、鈦酸鍶2～6份、碳酸鋇2～6份、磷酸二氫銨0.5～3份、氧化鋅0.5～3份和含氟助劑0.5～3份。

2.根據權利要求1所述的一種性能穩定的陶瓷釉料，其特征在于，包括以下重量份的原料：石英12～15份、左云土15～18份、熔塊8～12份、改性納米二氧化硅復合氧化石墨烯5～10份、硼酸5～8份、硅酸鋯5～8份、方解石3～5份、鈦酸鍶3～5份、碳酸鋇3～5份、磷酸二氫銨1～2份、氧化鋅1～2份和含氟助劑1～2份。

3.根據權利要求1所述的一種性能穩定的陶瓷釉料，其特征在于，所述含氟助劑包括羥基氟硅油和/或六氟硅酸鋅。

4.根據權利要求1所述的一種性能穩定的陶瓷釉料，其特征在于，還包括：亞硝酸鹽、硝酸鹽、碳酸鹽和硫酸鹽中的一種或多種。

5.一種性能穩定的陶瓷釉料的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、改性納米二氧化硅復合氧化石墨烯的制備：

S11、取納米二氧化硅、硅微粉、分散劑、消泡劑與潤濕劑加入去離子水中，攪拌分散一段時間得到納米二氧化硅乳液；

S12、配制質量濃度為10～20％的三羥甲基丙烷的乙醇水溶液，將氧化石墨烯、表面活性劑、偶聯劑和改性處理劑加入其中，混合均勻得到混合液；

S13、將所述納米二氧化硅乳液加入混合液中，加熱超聲或加熱攪拌處理，分離得到固體產物，干燥即得；

S2、粉碎過篩：按照配方比例加入石英、左云土、熔塊、改性納米二氧化硅復合氧化石墨烯、硼酸、硅酸鋯、方解石，進行粗磨，過100～200目篩，然后細磨，過200～300目篩，得粉末；

S3、漿料配制：將所得粉末與鈦酸鍶、碳酸鋇、磷酸二氫銨、氧化鋅、含氟助劑混合，加入水進行濕法球磨，所得漿料過300～500目篩，篩余0.2～5wt％。

6.根據權利要求5所述的一種性能穩定的陶瓷釉料的制備方法，其特征在于，步驟S11中所述分散劑為Disponer 929、EFKA SL 3034、Dow Corning 51中的一種或多種；

所述消泡劑為Deform 6800、Efka SL 2038、SRE-CN、Dow Corning 65中的一種或多種；

所述潤濕劑為烷基硫酸鹽、磺酸鹽、磷酸酯中的一種或多種。

7.根據權利要求5所述的一種性能穩定的陶瓷釉料的制備方法，其特征在于，步驟S12中所述表面活性劑為十二烷基硫酸鈉、十二烷基硫酸銨、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉和脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸銨中的一種或多種；

所述偶聯劑為十二烷基硅烷、氨丙基三乙氧基硅烷和鈦酸酯偶聯劑中的一種或多種；

所述改性處理劑為六甲基二氮硅烷、二甲基二氯硅烷和二甲基硅酮中的一種或多種。

8.根據權利要求5所述的一種性能穩定的陶瓷釉料的制備方法，其特征在于，步驟S13中所述加熱超聲的條件為：加熱溫度50～90℃，超聲頻率50～100kHz；所述加熱攪拌的條件為：加熱溫度50～90℃，攪拌速度1000～1500r/min。

9.根據權利要求5所述的一種性能穩定的陶瓷釉料的制備方法，其特征在于，步驟S3中濕法球磨的條件為總原料：磨球：水按重量比1：0.8～1.5：0.8～1.5球磨8～15h。

10.根據權利要求5所述的一種性能穩定的陶瓷釉料的制備方法，其特征在于，步驟S3中所述過篩后的釉漿中5～20μm以下顆粒含量不小于60％，20～50μm以下顆粒含量不小于80％。