[發明專利]一種準直膜、一種減干涉準直膜、一種貼合型準直膜、一種封孔貼合型準直膜及其制備方法有效
| 申請號: | 202011529920.4 | 申請日: | 2020-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN113376851B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發明(設計)人: | 李剛;夏寅;付坤;高斌基;劉建凱;陳建文;唐海江;張彥 | 申請(專利權)人: | 寧波激智科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/30 | 分類號: | G02B27/30;G02B3/00;G02B1/10;G06V40/13;G06V40/12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 準直膜 干涉 貼合 型準直膜 及其 制備 方法 | ||
本發明屬于圖像識別領域,尤其涉及一種準直膜、一種減干涉準直膜、一種貼合型準直膜、一種封孔貼合型準直膜及其制備方法。為了解決采用較厚遮光層設計的貼合型準直膜的氣泡問題,本發明提供一種準直膜、一種減干涉準直膜、一種貼合型準直膜、一種封孔貼合型準直膜及其制備方法。所述封孔貼合型準直膜包括準直透鏡層、柔性基體層、一層準直孔層和貼合膠層;所述準直透鏡層包含微透鏡陣列和肉厚;所述準直孔層為準直通路層,所述準直通路層包含柱狀準直通路陣列和遮光介質。本發明提供的封孔貼合型準直膜應用于圖像識別模組,使其識別準確率高。
技術領域
本發明屬于圖像識別領域,尤其涉及一種準直膜、一種減干涉準直膜、一種貼合型準直膜、一種封孔貼合型準直膜及其制備方法。
背景技術
在圖像識別領域,常用的圖像傳感器如CMOS型或photo-TFT型,傳感器模組中一般都含有準直器件,用以加強信噪比,提高識別率,減少串擾。準直器件的功能(如圖1所示)主要是對圖像單點像素處的漫射光進行準直過濾,形成的法向的準直光或接近準直的光(信號),可以順利傳輸到相應光電感應器處,而偏離法向的大角度光(噪音)只能極少地甚至無法進入非對應的光電感應器處,由此信噪比得以加強。
準直器件通常都具有頂部準直結構層和底部準直結構層:首先,頂層和底層雙層準直結構需要精確對位,否則會大大降低信號光的強度(如圖2所示);其次,需增加頂層(入光)準直結構和底層(出光)準直結構之間距離,或縮小微結構尺寸(如圖3所示),以提高整體長徑比,否則會增加串擾光的透過。
傳統的準直器件一般為剛性的準直片,如光纖集束切片,或是玻璃基兩側形成的微透鏡(Microlens)、準直光闌等,這類剛性準直片普遍需保持較高的厚度,一方面用以保持長徑比,一方面用以保持其機械性能,防止在應用環境中破碎。然而即便如此,這類剛性準直片仍然無法滿足大尺寸的圖像識別模組的應用。特別是還需要壓縮整體厚度的應用場合(如超薄大屏手機),它將變得更脆,更易碎,生產良率更低,不論是性能,還是成本都無法滿足需求。另外顯而易見的是,此類剛性準直片更不可能在柔性圖像識別模組中。
除了光纖集束類的準直片(頂層和底層準直結構本就對齊),絕大多數剛性準直片均需要完成兩層準直結構(準直光闌)的對位。然而,依次制備的兩層結構要進行高精度對位,具有相當大的難度:首先,需要非常復雜、昂貴的雙軸定位設備,定位過程繁瑣、耗時,若準直結構尺度小于50μm(圖像精度DPI508),點陣規模必會達到每平米上億個點,生產效率極其低下;其次,這種對位方式實際上精度并不高,特別是準直結構的尺寸縮小,數量增加時,累積誤差會變得愈發明顯,導致信號光強度下降,而頻繁地原點校正也將變得更加費時。
綜上,傳統剛性準直片存在厚度高,厚度低的情況下易碎、性能差,兩層準直結構(準直光闌)的對位難、良率低、產能低的問題,難以在大尺寸、超薄、柔性的圖像識別領域中應用。
發明內容
為了解決傳統剛性準直片中兩層準直光闌對位難的問題,本發明提供一種準直膜、一種減干涉準直膜、一種貼合型準直膜、一種封孔貼合型準直膜及其制備方法、及一種圖像識別模組及其制備方法。本發明提供的準直膜只包括一層準直孔層,解決了兩層準直光闌對位難的問題。與有序準直膜相比,本發明提供的減干涉準直膜能夠減輕光干涉現象,提高圖像識別準確率。
為了解決上述技術問題,本發明采用下述技術方案:
本發明提供一種準直膜,所述準直膜依次包括準直透鏡層、柔性基體層和準直孔層。
所述準直孔層為準直光闌。
本發明提供的準直膜只包括一層準直光闌。本發明提供的準直膜只包括一層準直孔層。
所述準直膜依次包括準直透鏡層、柔性基體層和一層準直孔層。
所述準直透鏡層置于柔性基體的上表面,準直孔層置于柔性基體的下表面。
所述準直透鏡層包含微透鏡陣列和肉厚。
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