[發明專利]一種改性納米晶帶材及其制備方法與應用

有效

• 申請號: 202011528665.1
• 申請日: 2020-12-22
• 公開（公告）號: CN112735801B
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: 劉立東;付亞奇;唐子舜;李燦武
• 申請（專利權）人: 橫店集團東磁股份有限公司
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

1.一種改性納米晶帶材制作納米晶復合結構磁片的應用，其特征在于，所述納米晶復合結構磁片包括依次層疊設置的離型膜層、第一改性納米晶帶材、第二改性納米晶帶材、第三改性納米晶帶材與第四改性納米晶帶材；所述第一改性納米晶帶材的雙面膠與離型膜層連接；相鄰兩層改性納米晶帶材的雙面膠與納米晶帶材連接；

所述納米晶復合結構磁片具有梯度導磁特性；

所述改性納米晶帶材的制備方法包括如下步驟：

(1)對單面粘附雙面膠的納米晶帶材進行輥壓處理，得到微碎化的納米晶帶材；

(2)對步驟(1)所得微碎化的納米晶帶材進行酸蝕表面處理；

(3)對步驟(2)所述酸蝕表面處理后的納米晶帶材進行堿洗表面處理；

(4)對步驟(3)所述堿洗表面處理所得納米晶帶材依次進行水洗與醇洗，然后烘干；

(5)對步驟(4)所述烘干后的納米晶帶材進行微氧化處理，得到改性納米晶帶材；

所述微氧化處理在氧氣濃度≥85vol％的氧氣氣氛中進行。

2.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，以質量百分比計，所述納米晶帶材包括：73.5wt％的Fe，13.5wt％的Si，9wt％的B，3wt％的Nb以及1wt％的Cu。

3.根據權利要求1或2所述的應用，其特征在于，步驟(1)所述輥壓的壓力為60-70kg。

4.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(1)所述輥壓的次數為1-5次。

5.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(2)所述酸蝕表面處理為：酸性溶液涂覆于微碎化的納米晶帶材表面進行表面酸處理，處理完成后使用去離子水進行清洗。

6.根據權利要求5所述的應用，其特征在于，所述酸性溶液為質量分數為0.5-1.2wt％的鹽酸溶液。

7.根據權利要求5所述的應用，其特征在于，所述表面酸處理的時間為3-8min。

8.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(3)所述堿洗表面處理為：堿性溶液涂覆于酸蝕表面處理后的納米晶帶材的表面進行表面堿處理，處理完成后使用去離子水進行清洗。

9.根據權利要求8所述的應用，其特征在于，所述堿性溶液包括碳酸氫鈉溶液、氫氧化鉀溶液或氫氧化鈉溶液中的任意一種或至少兩種的組合。

10.根據權利要求9所述的應用，其特征在于，所述堿性溶液包括氫氧化鈉溶液。

11.根據權利要求10所述的應用，其特征在于，所述氫氧化鈉溶液的質量分數為0.5-2wt％。

12.根據權利要求8所述的應用，其特征在于，所述表面堿處理的時間為5-10min。

13.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(4)所述水洗的次數為至少3次。

14.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(4)所述醇洗為使用無水乙醇清洗至少3次。

15.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(5)所述微氧化處理的溫度為60-85℃。

16.根據權利要求1所述的應用，其特征在于，步驟(5)所述微氧化處理的時間為15-30min。