[發明專利]一種金屬銀幕及其制備方法

在審

• 申請號: 202011528061.7
• 申請日: 2020-12-22
• 公開（公告）號: CN112578625A
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發明（設計）人: 陸嘉偉;薛九枝;樊杰
• 申請（專利權）人: 江蘇集萃智能液晶科技有限公司
• 主分類號: G03B21/60
• 分類號: G03B21/60
• 代理公司: 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235
• 代理人: 楊林潔

1.一種金屬銀幕，其特征在于，所述金屬銀幕包括基層、位于所述基層上的金屬層、包覆所述金屬層的第一介質層以及經打孔后形成的貫穿所述基層、所述金屬層和所述第一介質層的孔洞，所述孔洞是在所述基層上依次沉積所述金屬層和所述第一介質層之前直接在所述基層上打孔形成的，使所述孔洞截面處的所述金屬層被所述第一介質層覆蓋。

2.如權利要求1所述的金屬銀幕，其特征在于，所述孔洞的直徑為200μm～600μm。

3.如權利要求1所述的金屬銀幕，其特征在于，所述孔洞間距為1000μm～1500μm。

4.如權利要求1所述的金屬銀幕，其特征在于，所述金屬層為金、銀、鋁、銅中的至少一種。

5.如權利要求1所述的金屬銀幕，其特征在于，所述金屬層的厚度為20nm～200nm。

6.如權利要求1所述的金屬銀幕，其特征在于，所述金屬銀幕還包括位于所述基層上表面和所述金屬層下表面之間的第二介質層。

7.如權利要求6所述的金屬銀幕，其特征在于，所述第一介質層和/或所述第二介質層為二氧化硅、二氧化鈦、氮化硅中的至少一種。

8.如權利要求7所述的金屬銀幕，其特征在于，所述第一介質層和/或所述第二介質層的厚度為5nm～50nm。

9.如權利要求6所述的金屬銀幕，其特征在于，所述金屬層和/或所述第一介質層和/或所述第二介質層的沉積方式為蒸發鍍膜或濺射鍍膜。

10.如權利要求1所述的金屬銀幕，其特征在于，所述基層具有基層下表面和與所述基層下表面相對的基層上表面，所述基層上表面為不平坦的微結構化表面，所述金屬層具有金屬層下表面和金屬層上表面，所述金屬層基本上保形于所述基層上表面，使所述金屬層上表面形成與所述基層上表面基本一致的微結構化表面。

11.如權利要求10所述的金屬銀幕，其特征在于，所述金屬層上表面上任一點切線與所述基層下表面平行的平面之間的夾角θ控制在0度至+/-30度之間隨機變化。

12.如權利要求10所述的金屬銀幕，其特征在于，任選一個沿平行于所述基層下表面的方向尺寸大于1mm的區域，所述金屬層上表面的結構都由至少兩個波峰和至少兩個波谷組成，而且波峰波谷具有隨機結構。

13.如權利要求11所述的金屬銀幕，其特征在于，所述金屬層上表面上任一點切線與所述基層下表面平行的平面之間的夾角θ出現的幾率隨夾角θ的角度連續變化。

14.如權利要求13所述的金屬銀幕，其特征在于，所述夾角θ在0度出現的幾率最大，所述夾角θ隨著角度絕對值的增大出現的幾率連續變小。

15.如權利要求14所述的金屬銀幕，其特征在于，所述夾角θ出現幾率的最大值與最小值之比小于10:1。

16.如權利要求14所述的金屬銀幕，其特征在于，所述夾角θ出現幾率的最大值與最小值之比小于2:1。

17.如權利要求10至16任意一項所述的金屬銀幕，其特征在于，所述不平坦的微結構化表面的剖面是弧形結構或波狀結構。

18.如權利要求17所述的金屬銀幕，其特征在于，所述金屬層的相鄰波峰或相鄰波谷之間的特征長度L不大于0.5mm。

19.如權利要求17所述的金屬銀幕，其特征在于，所述金屬層的相鄰波峰或相鄰波谷之間的特征長度L不大于0.05mm。