[發明專利]In摻雜CdS薄膜、制備方法及制備的CIGS電池有效
| 申請號: | 202011526666.2 | 申請日: | 2020-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN112563118B | 公開(公告)日: | 2023-01-31 |
| 發明(設計)人: | 周正基;袁勝杰;武四新;常倩倩 | 申請(專利權)人: | 河南大學 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02;H01L31/0296;H01L31/032;H01L31/0352;H01L31/0392;H01L31/068 |
| 代理公司: | 鄭州優盾知識產權代理有限公司 41125 | 代理人: | 王紅培 |
| 地址: | 475004 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | in 摻雜 cds 薄膜 制備 方法 cigs 電池 | ||
1.一種用于CIGS太陽能電池緩沖層的In摻雜CdS薄膜的制備方法,其特征在于,步驟如下:
(1)利用銅粉、銦粉、鎵粉和硒粉制備CIGS前驅體薄膜,將CIGS前驅體薄膜硒化處理,制得CIGS吸收層薄膜;所述步驟(1)中將銅粉、銦粉、鎵粉和硒粉按照質量比為1:0.8:0.4:2溶于溶劑中,于70℃攪拌形成均勻穩定的褐色溶液,將褐色溶液旋涂到鉬玻璃上,在350 ℃加熱1 min,重復旋涂和加熱的步驟,制得1-2μm的CIGS前驅體薄膜;
(2)向硝酸鎘溶液中加入氨水和硫脲溶液,混合后加入步驟(1)制備得到的CIGS吸收層薄膜,65-85℃水浴加熱;其中硫脲溶液的濃度是1.0~1.5mol/L,硝酸鎘溶液的濃度是0.01~0.015mol/L,硝酸鎘溶液、氨水和硫脲溶液的體積比為20:36:12.8;
(3)將In(NO3)3溶液加入恒壓漏斗中,稀釋后逐滴滴加到步驟(2)的水熱溶液中,控制滴加速度為4 s每滴;其中In(NO3)3溶液的濃度為1.5×10-4 mol/L,控制溶液中In和Cd的物質的量比在1:(100~400)之間;
(4)滴加完畢后,待薄膜表面呈藍紫色后取出,得到In摻雜CdS薄膜。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中CIGS前驅體薄膜置于裝有硒粉的石墨盒中,在通入氬氣的快速升溫爐中550 ℃下硒化處理15 min,制得CIGS吸收層薄膜。
3.權利要求1-2任一項所述的制備方法制備的In摻雜CdS薄膜,其特征在于:所述In摻雜CdS薄膜的厚度為50~70nm。
4.利用權利要求3所述的In摻雜CdS薄膜制備的CIGS電池,其特征在于:包括鈉鈣玻璃襯底、Mo背電極、CIGS吸收層、In摻雜CdS緩沖層、本征ZnO和Al摻雜ZnO薄膜窗口層以及Ni-Al頂電極。
5.根據權利要求4所述的In摻雜CdS薄膜制備的CIGS電池,其特征在于:所述Mo背電極由直流磁控濺射制備,厚度為800~1000nm;本征ZnO和Al摻雜ZnO薄膜窗口層均由磁控濺射法制備,厚度分別為50 nm和250 nm;Ni-Al頂電極由熱蒸發法制備,厚度為1μm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于河南大學,未經河南大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011526666.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





