[發明專利]一種光學標記異常填涂識別方法、系統、終端及存儲介質有效
| 申請號: | 202011526386.1 | 申請日: | 2020-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN112528930B | 公開(公告)日: | 2022-10-14 |
| 發明(設計)人: | 馬磊;張華英;侯慶;陳霞 | 申請(專利權)人: | 山東山大鷗瑪軟件股份有限公司 |
| 主分類號: | G06V30/40 | 分類號: | G06V30/40;G06V10/26;G06V10/764;G06K9/62 |
| 代理公司: | 濟南舜源專利事務所有限公司 37205 | 代理人: | 孫玉營 |
| 地址: | 250101 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光學 標記 異常 識別 方法 系統 終端 存儲 介質 | ||
本發明提供一種光學標記異常填涂識別方法、系統、終端及存儲介質,包括:對光學標記識別填涂圖像進行二值化預處理,得到填涂區域集合;統計每塊填涂區域的填涂信息,所述填涂信息包括有效填涂面積、填涂灰度和過淺填涂面積;根據各填涂區域的填涂信息計算所述填涂區域集合的整體平均灰度和整體平均灰度標準差;根據所述整體平均灰度和整體平均灰度標準差對整體填涂過淺情況進行識別;通過比對填涂區域灰度值和整體平均灰度值的一致性,對填涂深淺不均情況進行識別。本發明能夠自動識別異常填涂,從而對異常填涂區域進行特殊處理或人工校驗,提高了光學標記識別答題卡的準確度,降低了人工校驗的工作量。
技術領域
本發明涉及光學標記識別技術領域,具體涉及一種光學標記異常填涂識別方法、系統、終端及存儲介質。
背景技術
光學標記識別(Optical Mark Recognition,OMR)技術具有快速簡單、識別率高且成本低的特點,被大量應用于考試、票據、報表、普查等領域,具有很高的應用價值。OMR一般由定位標記和選項識別區兩部分構成,早期的OMR采集技術使用光學感應設備直接對信息卡上的涂點進行對應采集識別,隨著高速圖像采集設備的發展,出現了基于圖像的OMR采集方式,其方法是首先對信息卡進行信息采集,得到數字圖像,使用圖像處理對涂點進行識別處理,轉化為數字信息。常規OMR信息卡使用對填涂區域分割起到關鍵作用的定位信息,方便對圖像進行分割及填涂識別。
隨著各類考試的計算機網上閱卷成為當今考試閱卷的發展潮流和趨勢,基于圖像的OMR識別關鍵技術也成為相關人員的研究重點。各類考試中通常考務要求考生規范填涂客觀題OMR,但仍不可避免的會出現異常填涂的情況,如細微填涂、區域連涂、填涂過淺、深淺不一、大小不一、未擦干凈、部分區域外填涂、完全區域外填涂、污漬污染等等。由于考生填涂OMR存在不規范情況,對OMR識別的正確率產生嚴重影響,增加了OMR人工質檢的工作量。
發明內容
針對現有技術的上述不足,本發明提供一種光學標記異常填涂識別方法、系統、終端及存儲介質,以解決上述技術問題。
第一方面,本發明提供一種光學標記異常填涂識別方法,包括:
對光學標記識別填涂圖像進行二值化預處理,得到填涂區域集合;
統計每塊填涂區域的填涂信息,所述填涂信息包括有效填涂面積、填涂灰度和過淺填涂面積;
根據各填涂區域的填涂信息計算所述填涂區域集合的整體平均灰度和整體平均灰度標準差;
根據所述整體平均灰度和整體平均灰度標準差對整體填涂過淺情況進行識別;
通過比對填涂區域灰度值和整體平均灰度值的一致性,對填涂深淺不均情況進行識別。
進一步的,所述對光學標記識別填涂圖像進行二值化預處理,包括:
利用最大類間方差法對填涂圖像進行預處理,將256個亮度等級的灰度圖像動態選取二值化閾值,獲得二值化圖像;
根據所述二值化圖像生成填涂區域坐標圖像,將填涂區域坐標保存至填涂區域集合。
進一步的,所述方法還包括:
根據所屬題目對填涂區域進行分類;
在整體填涂過淺情況下,對于單題,若存在有效填涂區域為0的情況,則比較單題內的OMR過淺填涂面積和灰度是否大于預設的過淺填涂閾值,若是,則判定該題目下的填涂區域存在填涂過淺問題;
對于多選題,比較單題內的OMR過淺填涂面積和灰度是否大于預設的過淺填涂閾值,若是,則判定該題目下的填涂區域存在填涂過淺問題。
進一步的,所述方法還包括:
計算題目內所有填涂區域的平均灰度值;
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