[發(fā)明專利]一種測量裝置的底座有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011525233.5 | 申請日: | 2020-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN112731514B | 公開(公告)日: | 2022-10-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 祝利群;柏磊;邵婕文;李新軍;靳占勇;何漢濤;許小明;程毅梅;方忻;王燕伶 | 申請(專利權(quán))人: | 中國原子能科學(xué)研究院 |
| 主分類號: | G01T7/00 | 分類號: | G01T7/00;G01T3/00 |
| 代理公司: | 北京天悅專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11311 | 代理人: | 任曉航;屈獻(xiàn)莊 |
| 地址: | 102413 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 測量 裝置 底座 | ||
1.一種測量裝置的底座,用于中子測量裝置,其特征在于,包括支承座和緊固螺桿;所述緊固螺桿設(shè)置于所述支承座上且上端設(shè)置有緊固結(jié)構(gòu)以將測量裝置壓緊固定于支承座上,所述緊固螺桿為中至少兩根,沿著所述支承座的周向均勻設(shè)置,所述支承 座上部設(shè)置有便于叉裝轉(zhuǎn)運(yùn)的凸緣,還包括用于對被測物料定位和承重的定位座;所述定位座設(shè)置在所述支承座上以將被測物料的載荷轉(zhuǎn)移給所述支承座,所述定位座包括底盤、頂盤、支承柱和定位塊;所述底盤和頂盤通過支承柱連接;所述定位塊設(shè)置在頂盤上;所述底盤設(shè)置在所述支承座上。
2.如權(quán)利要求1所述的測量裝置的底座,其特征在于,所述支承柱為雙頭螺桿或全螺紋螺桿以使所述底盤和頂盤的距離能夠調(diào)節(jié)。
3.如權(quán)利要求1所述的測量裝置的底座,其特征在于,所述定位塊為經(jīng)過熱處理的定位塊。
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