[發明專利]一種雙工作臺曝光機的曝光方法有效
| 申請號： | 202011521970.8 | 申請日： | 2020-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN112631080B | 公開（公告）日： | 2022-05-31 |
| 發明（設計）人： | 肖敏;廖紹良;夏天;張雷 | 申請（專利權）人： | 蘇州源卓光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215026 江蘇省蘇州*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 雙工 曝光 方法 | ||
1.一種雙工作臺曝光機的曝光方法，所述曝光機包括第一工作臺和第二工作臺，其特征在于：
基板正面曝光：將基板正面向上放置于任一工作臺上，曝光機構在基板正面曝光圖形，通過背面靶標裝置在基板背面制作背面對位標記；
基板反面曝光：將基板背面向上放置于任一工作臺上，對位機構抓取背面對位標記，控制機構根據所述背面對位標記的圖形確定曝光補償值，曝光機構根據控制機構確定的曝光補償值在基板背面曝光圖形；
其中，所述第一工作臺和所述第二工作臺上均設有多個背面靶標裝置，同一工作臺上的多個背面靶標裝置在基板背面制作的背面對位標記的圖形相同，不同工作臺上的背面靶標裝置在基板背面制作的背面對位標記的圖形不同。
2.根據權利要求1所述的雙工作臺曝光機的曝光方法，其特征在于：所述第一工作臺和所述第二工作臺的邊緣均設置有多個輔助靶標用于基板的正面對位。
3.根據權利要求2所述的雙工作臺曝光機的曝光方法，其特征在于：所述背面靶標裝置與所述輔助靶標一一對應，設置于多個輔助靶標遠離工作臺邊緣的內測。
4.根據權利要求3所述的雙工作臺曝光機的曝光方法，其特征在于：控制機構根據基板的尺寸大小選取部分或全部背面靶標裝置在基板背面制作背面對位標記。
5.根據權利要求1所述的雙工作臺曝光機的曝光方法，其特征在于：控制機構根據不同的背面對位標記分別建立對位標記識別模版，通過將對位機構抓取的背面對位標記與對位標記識別模版進行匹配識別，確認基板正面曝光時所處工作臺，確認曝光補償值。
6.根據權利要求1所述的雙工作臺曝光機的曝光方法，其特征在于：所述曝光補償值是在基板進行正面曝光前通過套刻對準的曝光方式獲得并配置在系統參數中，供控制機構調用。
7.根據權利要求1所述的雙工作臺曝光機的曝光方法，其特征在于：所述曝光補償值分為四種，具體獲取方式是：
通過在第一工作臺曝光正面套刻圖形，然后分別在第一工作臺和第二工作臺曝光反面套刻圖形，獲得在第一工作臺曝光正面后再進行背面曝光時的兩種曝光補償值；
通過在第二工作臺曝光正面套刻圖形，然后分別在第一工作臺和第二工作臺曝光反面套刻圖形，獲得在第二工作臺曝光正面后再進行背面曝光時的兩種曝光補償值。
8.根據權利要求7所述的雙工作臺曝光機的曝光方法，其特征在于：通過迭代方式確認曝光補償值。
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