[發明專利]一種低介電常數低損耗低熱膨脹系數PTFE基電路基板及其制備方法在審
| 申請號: | 202011520897.2 | 申請日: | 2020-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN112480579A | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發明(設計)人: | 李秋影;劉鵬英;張寧 | 申請(專利權)人: | 華東理工大學 |
| 主分類號: | C08L27/18 | 分類號: | C08L27/18;C08K13/06;C08K9/10;C08K7/14;C08K7/28;H05K1/03 |
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| 地址: | 200237 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 介電常數 損耗 低熱 膨脹系數 ptfe 路基 及其 制備 方法 | ||
1.一種低介電常數低損耗低熱膨脹系數PTFE基電路基板,其特征在于,所述的復合材料由PTFE樹脂、玻璃纖維、中空玻璃微球和無機填料的表面改性劑組成,其中,PTFE樹脂質量占PTFE基電路基板質量的80-95%,玻璃纖維質量占PTFE基電路基板質量的1-10%,中空玻璃微球質量占PTFE基電路基板質量的1-10%,改性劑的質量占無機填料(玻璃纖維或中空玻璃微球)質量的10-20%。
2.如權利1要求的PTFE基電路基板,其特征在于,所述PTFE基電路基板具有以下一項或多項特征:
(1)所述PTFE的數均分子量為423萬-702萬;
(2)所述玻璃纖維的長度0.1mm-1mm,直徑為5-15μm;
(3)所述中空玻璃微球粒徑為20-100μm;和
(4)所述改性劑為四乙氧基硅烷、羥基封端的聚二甲基硅氧烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷和苯基三乙氧基硅烷中的一種或多種。
3.一種制備改性無機填料的方法,其特征在于,所述方法包括步驟如下:
將質量為無機填料質量10-20%改性劑解于無水乙醇中,得到改性劑分散液,用堿將改性劑分散液的pH調至9-11,將質量為PTFE基電路基板質量的1-10%無機填料用鹽酸洗滌后放入改性劑分散液中分散均勻,反應6-8h后于80-90 ℃的烘箱內烘干得到改性無機填料。
4.如權利要求3所述方法,其特征在于,所述方法具有以下一項或多項特征:
(1)所述無機填料為玻璃纖維或中空玻璃微球中的一種或多種;
(2)所述改性劑為四乙氧基硅烷、羥基封端的聚二甲基硅氧烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷和苯基三乙氧基硅烷中的一種或多種;
(3)在40℃-60℃下向改性劑分散液中加入氨水以調節pH;和
(4)使用磁力攪拌器在100rpm-250rpm下將無機填料分散到改性劑分散液中。
5.一種制備PTFE基電路基板的方法,其特征在于,所述方法包括步驟如下:
按照所述配比,將PTFE、改性后玻璃纖維和改性后中空玻璃微球置于燒杯中,加適量無水乙醇共混5-10 min得到PTFE/改性后玻璃纖維/改性后中空玻璃微球復合糊狀物,用300目篩網慮掉PTFE/改性后玻璃纖維/改性后中空玻璃微球復合糊狀物中溶劑后,于烘箱在80-90 ℃的溫度下烘干得到PTFE/改性后玻璃纖維/改性后中空玻璃微球復合團塊,將烘干后的PTFE/改性后玻璃纖維/改性后中空玻璃微球復合團塊用粉碎機粉碎后,得PTFE/改性玻璃纖維/改性后中空玻璃微球復合粉料,后將PTFE/改性后玻璃纖維/改性后中空玻璃微球復合粉料置于模具中用壓機在10-15 MPa的條件下冷壓5-10 min得到PTFE/改性后玻璃纖維/改性后中空玻璃微球矩形片材,后于馬弗爐中燒結成型最終得到上述PTFE基電路基板。
6.如權利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法具有以下一項或多項特征:
(1)使用高速分散機在1000-2500rpm下將PTFE、改性后玻璃纖維和改性后中空玻璃微球于無水乙醇溶劑中共混;
(2)所述PTFE/改性后玻璃纖維/改性后中空玻璃微球矩形片材尺寸為10cm*15cm*1mm;和
(3)在馬弗爐中燒結成型的具體升溫過程依次為從室溫以2 ℃/min的升溫速率升溫至220 ℃,后以1 ℃/min的升溫速率升溫至320 ℃,后以0.5 ℃/min的升溫速率升溫至380℃,保溫2 h,最后保溫降溫至室溫,得到上述PTFE基電路基板。
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