[發明專利]復合半透膜有效
| 申請號： | 202011518166.4 | 申請日： | 2020-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN113041857B | 公開（公告）日： | 2023-04-25 |
| 發明（設計）人： | 佐藤長久;越前將 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | B01D69/12 | 分類號： | B01D69/12;B01D69/06;B01D61/02;B01D71/56 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 王海川;張泉陵 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 復合 半透膜 | ||
【權利要求書】：
1.一種復合半透膜，所述復合半透膜為逆滲透膜，所述復合半透膜具備：
基材；
設置在所述基材上的多孔質層；及
設置在所述多孔質層上的分離功能層，所述分離功能層包含交聯聚酰胺，
所述多孔質層包含結晶性聚合物，并且
所述結晶性聚合物的結晶度為３０％以上且５０％以下，
所述結晶性聚合物為含氟聚合物，
所述多孔質層還包含含酰亞胺基的聚合物，所述多孔質層表面上的平均孔徑為５ｎｍ以上且５０ｎｍ以下，所述多孔質層的厚度為1０μｍ以上且1００μｍ以下，并且所述多孔質層為通過非溶劑致相分離法或熱致相分離法在所述基材上形成的多孔質層，
所述分離功能層為通過浸漬于多官能胺化合物，之后通過將所述多孔質層與酸鹵化合物的溶劑溶液接觸以進行界面聚合而形成的層，?并且
其中由所述多孔質層和所述分離功能層構成的部分的５．５ＭＰａ加壓后的壓縮率為６０％以下。
2.如權利要求1所述的復合半透膜，其中，
所述含氟聚合物為從由聚偏二氟乙烯、聚四氟乙烯、乙烯－四氟乙烯、及全氟烷氧基氟碳聚合物組成的群中選出的一種以上。
3.如權利要求1或2所述的復合半透膜，其中，
所述多孔質層的空隙率為３０％以上且７０％以下。
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