[發明專利]一種基于磁性磨粒流的光學玻璃拋光方法及其裝置

在審

• 申請號: 202011517871.2
• 申請日: 2020-12-21
• 公開（公告）號: CN112536649A
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發明（設計）人: 王華東;鄂世舉;賀新升;王城武;何力鈞;黃平;龐佩
• 申請（專利權）人: 浙江師范大學
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B13/00;B24B31/10;B24B13/005;C09G1/02
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1.一種基于磁性磨粒流的光學玻璃拋光方法，其特征在于：在聚合物膠體中加入磁性磨粒、加工磨粒和分散劑，制備具有高濃度磁性磨粒的拋光液；其中，磁性磨粒占拋光液的質量分數為75％～95％，聚合物膠體的質量分數為10％～20％，加工磨粒的質量分數為1％～5％，分散劑的質量分數為0.5％～2％。

在拋光過程中，光學玻璃零件與拋光液之間做相對運動，采用磁場發生器給所述拋光液施加磁場，調節拋光液中磨粒的聚集度，增加零件與磨粒之間的摩擦力，進而實現磨粒對零件的微量去除，達到高效拋光的效果。

2.如權利要求1所述的一種基于磁性磨粒流的光學玻璃拋光方法，其特征在于：所述的磁性磨粒為鐵氧體粉末或羥基鐵粉，粒徑范圍為0.05～3μm；所述的聚合物膠體為硅溶膠或鋁溶膠；所述的加工磨粒為金剛石、碳化硅、氧化鋁、氧化鈰、氧化硅、氧化鋯、氧化鈦的一種或幾種磨粒的混合物，粒徑范圍為0.5～30μm，磨粒的種類、粒度和濃度根據拋光工件的加工質量和效率選取。

3.如權利要求1所述的一種基于磁性磨粒流的光學玻璃拋光方法，其特征在于：在所述拋光液中，可以加入分散劑以防止磁性磨粒和加工磨粒的沉降和凝聚。所述的分散劑為油酸、聚乙二醇、六偏磷酸鈉、焦磷酸鈉、聚乙烯醇的一種或幾種混合物，分散劑的種類和濃度根據加工磨粒和聚合物膠體種類以及加工工件的材料特性選取。

4.一種基于磁性磨粒流的光學玻璃拋光裝置，其特征在于：包括用于盛放拋光液的拋光槽、磁場發生器和用于固定零件的夾具，所述磁場發生器安裝在所述拋光槽的周圍，所述夾具位于所述拋光槽上方。

5.如權利要求4所述的一種基于磁性磨粒流的光學玻璃拋光裝置，其特征在于：所述拋光槽包括粗加工拋光槽和精加工拋光槽，所述粗加工拋光槽中拋光液的加工磨粒為硬度和粒度較大的磨粒，所述精加工拋光槽中拋光液的加工磨粒為硬度和粒度較小的磨粒。

6.如權利要求4所述的一種基于磁性磨粒流的光學玻璃拋光裝置，其特征在于：所述磁場發生器為螺旋結構的電磁激勵線圈。

7.如權利要求4所述的一種基于磁性磨粒流的光學玻璃拋光裝置，其特征在于：所述夾具與用于驅動夾具轉動以及上下左右前后移動的驅動機構連接。