[發(fā)明專利]一種鍺基晶格失配四結(jié)太陽(yáng)電池有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011517196.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112635608B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張恒;孫強(qiáng);劉如彬;張啟明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十八研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0725 | 分類號(hào): | H01L31/0725;H01L31/0735;H01L31/0216;H01L31/18 |
| 代理公司: | 天津市鼎和專利商標(biāo)代理有限公司 12101 | 代理人: | 蒙建軍 |
| 地址: | 300384 天津市濱海*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶格 失配 太陽(yáng)電池 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種鍺基晶格失配四結(jié)太陽(yáng)電池,屬于太陽(yáng)電池技術(shù)領(lǐng)域,其特征在于,自下而上依次包括:鍺襯底、GaInP成核層、GaInAs緩沖層、第一隧穿結(jié)、(AlGa)subgt;1?b/subgt;Insubgt;b/subgt;As第一晶格漸變緩沖層、(AlGa)subgt;1?x/subgt;Insubgt;x/subgt;As/(AlGa)subgt;1?x/subgt;Insubgt;x/subgt;As第一布拉格反射鏡、Gasubgt;1?x/subgt;Insubgt;x/subgt;As子電池、第二隧穿結(jié)、(AlGa)subgt;1?c/subgt;Insubgt;c/subgt;P第二晶格漸變緩沖層、AlGaAs/AlGaAs第二DBR,Alsubgt;1?z/subgt;Gasubgt;z/subgt;As子電池、第三隧穿結(jié)、(AlGa)subgt;1?v/subgt;Insubgt;v/subgt;P子電池、GaInAs帽層;通過(guò)采用上述技術(shù)方案,本發(fā)明中的鍺基晶格失配四結(jié)太陽(yáng)電池具有光電轉(zhuǎn)換效率高、抗輻照性能好的優(yōu)點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于太陽(yáng)電池技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種鍺基晶格失配四結(jié)太陽(yáng)電池。
背景技術(shù)
目前空間飛行器主電源用太陽(yáng)電池中,技術(shù)成熟、轉(zhuǎn)換效率較高的是以鍺作為襯底的空間高效三結(jié)太陽(yáng)電池,其三個(gè)子電池的帶隙分別為1.9、1.4和0.67eV,1.4eV中電池與0.67eV鍺子電池之間較大的帶隙差異,導(dǎo)致紅外光譜利用率低,各子電池的電流不匹配,限制了電池轉(zhuǎn)換效率的進(jìn)一步提升。為了獲得更高的轉(zhuǎn)換效率,太陽(yáng)電池的設(shè)計(jì)需要進(jìn)一步地考慮光譜匹配。
增加子電池?cái)?shù)量是提高太陽(yáng)電池效率的最有效手段,其可以對(duì)0.67eV-1.41eV能量范圍內(nèi)的太陽(yáng)光譜進(jìn)行進(jìn)一步劃分,即在Ge與GaAs子電池之間增加一個(gè)帶隙1.0eV左右的子電池,利用原被Ge子電池吸收的中長(zhǎng)波長(zhǎng)的光子,形成四結(jié)太陽(yáng)電池。1.0eV子電池可以采用晶格失配的GaInAs材料實(shí)現(xiàn)。2010年,W.Guter采用細(xì)致平衡原理設(shè)計(jì)了帶隙為1.9/1.4/1.0/0.67eV的正向失配四結(jié)太陽(yáng)電池,模擬計(jì)算的理論效率達(dá)到36.8%。因此,晶格失配四結(jié)太陽(yáng)電池是實(shí)現(xiàn)太陽(yáng)電池效率進(jìn)一步提高的新一代空間高效太陽(yáng)電池產(chǎn)品。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題,提供一種鍺基晶格失配四結(jié)太陽(yáng)電池,用于提高光電轉(zhuǎn)換效率和抗輻照性能。
本發(fā)明的目的是提供一種鍺基晶格失配四結(jié)太陽(yáng)電池,從下至上依次包括:鍺襯底、GaInP成核層、GaInAs緩沖層、第一隧穿結(jié)、(AlGa)1-bInbAs第一晶格漸變緩沖層、(AlGa)1-xInxAs/(AlGa)1-xInxAs第一布拉格反射鏡(DBR)、Ga1-xInxAs子電池、第二隧穿結(jié)、(AlGa)1-cIncP第二晶格漸變緩沖層、AlGaAs/AlGaAs第二布拉格反射鏡(DBR),Al1-zGazAs子電池、第三隧穿結(jié)、(AlGa)1-vInvP子電池、GaInAs帽層。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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