[發明專利]電子裝置及其制造方法在審
| 申請號: | 202011515877.6 | 申請日: | 2020-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN113035849A | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發明(設計)人: | 陳顯德 | 申請(專利權)人: | 優顯科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L25/075 | 分類號: | H01L25/075;H01L33/48;H01L33/62;H01L25/04;H01L25/065;H01L25/07;H01L21/98;H01L31/042;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245 | 代理人: | 魏利娜 |
| 地址: | 中國臺灣臺北市信*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 裝置 及其 制造 方法 | ||
本申請公開電子裝置及其制造方法。一種電子裝置包括:目標襯底、陣列式微半導體結構、陣列式接合件、以及接合層。陣列式微半導體結構設在目標襯底。陣列式接合件對應陣列式微半導體結構、且電連接陣列式微半導體結構至目標襯底的圖樣電路;兩兩接合件彼此獨立;各該接合件為由設在該目標襯底的導電墊片、與設在各該微半導體結構的導電電極通過共晶鍵合的一體性構件。接合層連接各微半導體結構至目標襯底;其中,該接合層不具有導電材料;各該接合件恰由該接合層接觸包覆,該接合層與這些陣列式接合件形成同層關系。
技術領域
本發明涉及一種電子裝置,以及一種微半導體結構共晶接合的電子裝置 及其制造方法。
背景技術
傳統發光二極管(邊長大于150微米以上)在制造光電裝置的過程中, 是以磊晶(Epitaxy)、黃光、鍍金屬、蝕刻等工藝制作發光二極管之后,經切 割得到一顆一顆的發光二極管晶粒,并利用引線接合或共晶接合使發光二極 管的電極與電路襯底電連接。但是,對于微發光二極管而言,由于尺寸相當 小(例如只有25微米或更小),無法以傳統的引線接合或共晶接合的設備進 行電極的電連接。
因此,對微米尺寸或更小的微發光二極管或微半導體結構進行電連接, 業界亟需有對應的方式。
發明內容
本發明為提供一種電子裝置及其制造方法,可廣泛應用于不同微半導體 結構的電子裝置。
本發明為提供一種電子裝置及其制造方法,可解決因微米尺寸或更小的 微半導體結構的電連接需求。
本發明提供一種電子裝置包括:目標襯底、陣列式微半導體結構、陣列 式接合件、以及接合層。陣列式微半導體結構設在目標襯底。陣列式接合件 對應陣列式微半導體結構、且電連接陣列式微半導體結構至目標襯底的圖樣 電路;兩兩接合件彼此獨立;各該接合件為由設在該目標襯底的導電墊片、 與設在各該微半導體結構的導電電極通過共晶鍵合的一體性構件;各該接合 件定義有連接各該微半導體結構的第一端、連接該目標襯底的第二端、以及 連接該第一端、第二端的周部。接合層連接各微半導體結構至目標襯底;其中,該接合層為非導電材料;各該接合件的該周部恰由該接合層接觸包覆, 該接合層與這些陣列式接合件形成同層關系。
在一個實施例中,各該接合件為銦金合金系統的共晶鍵合。
在一個實施例中,各該接合件為銦鎳合金系統的共晶鍵合。
在一個實施例中,該接合層的該高分子材料包括環氧樹脂系、或壓克力 系。
在一個實施例中,該接合層的該高分子材料的固化溫度為170-220℃。
在一個實施例中,該接合層的該高分子材料的玻璃轉移溫度大于240℃。
本發明提供一種電子裝置的制造方法,包括:在具有導電墊片的目標襯 底上涂覆高分子材料至預備厚度;由涂覆在該目標襯底上的該高分子材料拾 取具有導電電極的陣列式微半導體結構;以及,共晶接合互相對應的該導電 電極與該導電墊片。
其中,該導電墊片包括第一金屬,該高分子材料為不具有導電粒子的非 導電材料;其中,該高分子材料定義黏滯度-溫度變化特征:在第一溫度具有 第一黏滯性,在第二溫度具有第二黏滯性,在第三溫度具有第三黏滯性,在 第四溫度具有第四黏滯性,在第五溫度具有第五黏滯性;其中,該第一溫度 至第五溫度為有序遞增,該第一溫度為常溫、該第五溫度為玻璃轉移溫度; 該第三黏滯性、第五黏滯性分別為極限值,該第三黏滯性為極小值、該第五 黏滯性為極大值;該第二黏滯性鄰近該第三黏滯性。
其中,包括第二金屬的該導電電極設在各該微半導體結構上,設在各該 微半導體結構的該導電電極對應至設在該目標襯底的該導電墊片;其中,該 第一金屬、第二金屬之間定義有共晶溫度,該共晶溫度介于該第三溫度、第 四溫度之間。
其中,包括對這些陣列式微半導體結構、該高分子材料、與該目標襯底, 由該第一溫度開始增溫至該第四溫度,并依序執行下列步驟:
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