[發明專利]一種多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統和終端

有效

• 申請號: 202011515820.6
• 申請日: 2020-12-21
• 公開（公告）號: CN112669268B
• 公開（公告）日: 2023-06-06
• 發明（設計）人: 王華;楊凱;徐建新
• 申請（專利權）人: 昆明理工大學
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;G06T7/11
• 代理公司: 北京盛詢知識產權代理有限公司 11901
• 代理人: 陳巍

本申請公開了供一種多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統和終端，方法，包括如下步驟，S1、接收濃度場分布信息，獲取像素矩陣；S2、利用局部偏差函數的數學類比，對所述像素矩陣進行處理，從像素矩陣中計算并給出實際濃度場中局部矩形區域的濃度局部差異函數；S3、基于得到的濃度局部差異函數而計算濃度場分布的單個不均勻系數，并獲取單張圖片中濃度場的整體不均勻系數，基于所述整體不均勻系數而判斷濃度場的分布不均勻性。本發明提供的技術方法能夠對濕法冶金過程多相混合濃度場分布均勻性進行評價，簡便可靠，且也可以適用于溫度場的均勻性評價。

技術領域

本申請涉及濕法冶金技術領域，具體而言，涉及一種多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統和終端。

背景技術

攪拌混合是指攪動液體或固體使之發生某種方式的循環流動，從而使物料混合均勻或使物理、化學過程加速的操作。

在濕法冶金過程中，攪拌是為了加快混合的效率，提高濃度場的均勻度。

現有的評價多相混合濃度場分布均勻性的方法主要有：局部偏差函數法、變異系數法等，但這些方法存在準確性不夠高、評價范圍低一級可靠性不足的技術缺陷。

發明內容

本申請的主要目的在于提供一種多相混合濃度場分布均勻性評價方法、系統和終端，對濕法冶金過程多相混合濃度場分布均勻性進行評價，具體涉及濕法冶金的攪拌混合過程，以解決目前的問題。

為了實現上述目的，本申請提供了如下技術：

本發明第一方面在于提供一種多相混合濃度場分布均勻性評價方法，包括如下步驟，

S1、接收濃度場分布信息，獲取像素矩陣；

S2、利用局部偏差函數的數學類比，對所述像素矩陣進行處理，從像素矩陣中計算并給出實際濃度場中局部矩形區域的濃度局部差異函數；

S3、基于得到的濃度局部差異函數而計算濃度場分布的單個不均勻系數，并獲取單張圖片中濃度場的整體不均勻系數，基于所述整體不均勻系數而判斷濃度場的分布不均勻性。

優選地，在步驟S1中，所述獲取濃度場分布信息，獲取像素矩陣，具體為：

對所述濃度場分布信息進行灰度處理，獲取濃度場灰度圖；

根據所述濃度場灰度圖而獲取對應的像素矩陣。

優選地，所述根據所述濃度場灰度圖而獲取對應的像素矩陣，具體位置：

設定預設灰度值；

基于所述預設灰度值將所述濃度場灰度圖分散為元素矩陣；

根據所述元素矩陣集成獲取對應所述濃度場灰度圖的像素矩陣。

優選地，所述濃度局部差異函數為：

其中：

T_ij代表不同位置灰度值(i,j)∈{1,P},θ₁∈{1,P}，θ₂∈{1,Q}；P和Q分別是灰度矩陣或濃度矩陣的行數和列數；i，j分別表示整個溫度場中某一點的行數和列數，θ₁、θ₂分別表示溫度場局部矩形區域中的數值點的總行數和總列數。

優選地，在步驟S3中，所述基于得到的濃度局部差異函數而計算濃度場分布的單個不均勻系數，并獲取單張圖片中濃度場的整體不均勻系數，基于所述整體不均勻系數而判斷濃度場的分布不均勻性，包括：

將濃度場按照第一分布預設規則劃分，獲取單元濃度場區域；

基于所述濃度局部差異函數而計算所述單元濃度場區域的單個不均勻系數；