[發明專利]陣列基板及制備方法、顯示面板及制備方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 202011515437.0
• 申請日: 2020-12-21
• 公開（公告）號: CN112596316B
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發明（設計）人: 董殿正;崔曉鵬;陳維濤;張強;王光興;林萬;黃海琴;許文鵬
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1343
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 王迪

1.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括：襯底基板；所述襯底基板包括：顯示區以及所述顯示區之外的周邊區；所述周邊區包括：去除區，以及位于所述去除區靠近所述顯示區一側的第一保留區；

所述陣列基板還包括：位于所述襯底基板之上的多個從所述顯示區延伸到所述去除區的引線電極；

在所述第一保留區以及與所述第一保留區相鄰的至少部分所述去除區，每一所述引線電極包括：交替陣列排布的多個第一電極部和多個第二電極部；所述第一電極部和所述第二電極部電連接；

所述第一電極部和所述第二電極部的表面剝離力不同。

2.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，多個所述第一電極部在所述襯底基板上的正投影的圖案與多個所述第二電極部在所述襯底基板上的正投影的圖案互補。

3.根據權利要求1或2所述的陣列基板，其特征在于，在所述襯底基板上，所述第一電極部的正投影的形狀和所述第二電極部的正投影的形狀均為矩形。

4.根據權利要求3所述的陣列基板，其特征在于，各所述矩形的長度相等，各所述矩形的寬度相等。

5.根據權利要求4所述的陣列基板，其特征在于，在所述引線電極的排列方向上，每一所述引線電極的寬度為70微米～100微米，每一所述第一電極部以及每一所述第二電極部的寬度均為5微米～10微米。

6.根據權利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述周邊區還包括：位于所述第一保留區和所述顯示區之間的第二保留區；

在所述第二保留區，所述引線電極包括與所述第一電極部和所述第二電極部接觸的第三電極部。

7.根據權利要求6所述的陣列基板，其特征在于，所述第一電極部的材料包括的導電材料與所述第二電極部包括的導電材料不相同；

所述第三電極部包括的導電材料與所述第一電極部包括的導電材料相同。

8.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

提供襯底基板，所述襯底基板包括：顯示區以及所述顯示區之外的周邊區；所述周邊區包括：去除區，以及位于所述去除區靠近所述顯示區一側的第一保留區；

在所述襯底基板之上形成從所述顯示區延伸到所述去除區的引線電極；其中，在所述第一保留區以及與所述第一保留區相鄰的至少部分所述去除區，每一所述引線電極包括：交替排列的多個第一電極部和多個第二電極部；所述第一電極部和所述第二電極部電連接；所述第一電極部和所述第二電極部的表面剝離力不同。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在所述襯底基板之上形成從所述顯示區延伸到所述去除區的引線電極，具體包括：

在所述襯底基板之上沉積第一導電材料，形成第一導電層；

對所述第一導電層進行圖形化工藝，在所述第一保留區以及與所述第一保留區相鄰的至少部分所述去除區形成多個所述第一電極部的圖案；其中，相鄰所述第一電極部之間具有第一開口；

沉積第二導電材料，并在所述第一開口形成所述第二電極部的圖案。

10.一種液晶顯示面板的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

提供對向基板以及根據權利要求1～7任一項所述的陣列基板；

采用對盒工藝將所述對向基板和所述陣列基板對盒，并在所述陣列基板和所述對向基板之間填充液晶；

采用切割工藝和研磨工藝去除所述去除區的陣列基板和所述對向基板。