[發明專利]濾波方法

在審

• 申請號: 202011513478.6
• 申請日: 2020-12-18
• 公開（公告）號: CN112561823A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 趙海武;王國中;范濤;陳勇;趙東方
• 申請（專利權）人: 上海國茂數字技術有限公司
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 曹廷廷

1.一種濾波方法，根據噪聲的強度進行濾波，其特征在于，所述濾波方法包括以下步驟：

步驟S1：以待濾波像素為中心選取第一模板，所述第一模板中包含所有到所述待濾波像素的距離小于或等于第一半徑的像素；

步驟S2：根據所述待濾波像素附近的噪聲強度設定門限值；

步驟S3：以所述待濾波像素為中心選取搜索區，所述搜索區中包含所有到所述待濾波像素的距離小于等于第二半徑的待判定像素；

步驟S4：對所述搜索區中的每一個待判定像素執行以下步驟：

步驟S41：以所述待判定像素為中心選取第二模板，所述第二模板中包含所有到所述待判定像素的距離小于等于第一半徑的像素；

步驟S42：計算所述待判定像素與所述待濾波像素之間的模板距離；

步驟S43：若所述模板距離小于或等于所述門限值，則所述待判定像素為所述待濾波像素的同類像素，并將所述待判定像素加入同類像素集；

步驟S5：計算所述同類像素集中所有像素的像素值的平均值，并將所述平均值作為所述待濾波像素濾波后的值。

2.如權利要求1所述的濾波方法，其特征在于，所述步驟S1、所述步驟S3及所述步驟S41中的兩個像素之間的距離按照以下公式進行計算：

D(P₁,P₂)＝|x₁-x₂|+|y₁-y₂|

其中，所述(x₁，y₁)和(x₂，y₂)分別為像素P₁和像素P₂的坐標。

3.如權利要求1所述的濾波方法，其特征在于，所述步驟S2中，根據所述待濾波像素附近的噪聲的標準差計算門限值。

4.如權利要求3所述的濾波方法，其特征在于，所述門限值按照以下計算公式進行計算：

threshold＝σ^a

其中，threshold為門限值，σ為已知的標準差，a是一個正數。

5.如權利要求4所述的濾波方法，其特征在于，所述a的取值介于0.5-3之間。

6.如權利要求1所述的濾波方法，其特征在于，所述第一模板中包含的像素數與所述第二模板中包含的像素數相同。

7.如權利要求6所述的濾波方法，其特征在于，所述步驟S42中，所述待判定像素與所述待濾波像素之間的模板距離按照以下公式進行計算：

其中，M為所述待判定像素與所述待濾波像素之間的模板距離，N為所述第一模板中包含的像素數或所述第二模板中包含的像素數，p_i和q_i分別為把所述第一模板及所述第二模板中的像素按照相同的方法排序后的第i個像素的值，e_i為所述第i個像素的權重。

8.如權利要求7所述的濾波方法，其特征在于，所述第i個像素的權重按照以下公式進行計算：

其中，D(P_i,P)為第i個像素到所述待濾波像素的距離。

9.如權利要求1所述的濾波方法，其特征在于，所述第一半徑的取值介于1-4之間。

10.如權利要求1所述的濾波方法，其特征在于，所述第二半徑的取值大于或等于4。