[發(fā)明專利]一種用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011512794.1
• 申請(qǐng)日: 2020-12-20
• 公開（公告）號(hào): CN112457780A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魯新輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)沙縣新光特種陶瓷有限公司
• 主分類號(hào): C09G1/02
• 分類號(hào): C09G1/02;C01F7/02;B82Y30/00;B24B57/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法，其特征在于，經(jīng)過固態(tài)重結(jié)晶法與物理吸附的手段制備而成，具體步驟如下：

步驟1：首先將微米a氧化鋁、分散劑、PH調(diào)節(jié)劑加入水溶液攪拌均勻，控制PH值在8~12之間，標(biāo)記為A液體；

步驟2：把適量的納米a氧化鋁和固態(tài)重結(jié)晶劑加入水溶液中，標(biāo)記為B液體；

步驟3：把B液體在不斷攪拌的情況下緩慢加入到A液體中，得到納米a氧化鋁吸附于微米a氧化鋁的漿料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法，其特征在于：還包括步驟4：經(jīng)過陳化、水洗離心分離、烘干、1100℃~1400℃高溫煅燒1~4h后，再經(jīng)過水洗、球磨、水流分級(jí)、噴霧干燥后即可制備出所述拋光粉。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法，其特征在于，微米a氧化鋁重量百分含量為60wt%~90wt%；納米a氧化鋁重量百分含量為0.5wt%~10wt%；固態(tài)重結(jié)晶劑重量百分含量為0.001wt%~5wt%；分散劑重量百分含量為0.001wt%~5wt%；PH調(diào)節(jié)劑重量百分含量為0.001wt%~1wt%。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法，其特征在于，所述的分散劑為焦磷酸鈉、磷酸三鈉、磷酸四鈉、六偏磷酸鈉、烷基芳基磺酸鈉、烷基苯磺酸鈉、二烷基磺基墟拍酸鈉、聚乙二醇烷基芳基醚磺酸鈉、聚乙烯吡咯酮、聚乙二醇中的一種或幾種組合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法，其特征在于：所述的PH調(diào)節(jié)劑為氫氧化鉀、氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫鈉、氫氧化銨、四甲基氫氧化銨、氟化銨、一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二乙胺、三乙胺中的一種或幾種組合。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法，其特征在于：所述的固態(tài)重結(jié)晶劑為氟化鋅、氟化鋁、氟化鐵、氟化鎂中的一種或者幾種組合。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法，其特征在于：所述的微米a氧化鋁粒徑D50在0.8um~3um之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于碳化硅晶片的拋光粉生產(chǎn)方法，其特征在于：所述的納米a氧化鋁粒徑D50在0.01um~0.2um之間。