[發明專利]一種具有增強可靠性的碳化硅功率MOSFET器件有效
| 申請號: | 202011510548.2 | 申請日: | 2020-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN112599524B | 公開(公告)日: | 2022-09-20 |
| 發明(設計)人: | 任娜;盛況;朱鄭允 | 申請(專利權)人: | 浙江大學杭州國際科創中心 |
| 主分類號: | H01L27/088 | 分類號: | H01L27/088;H01L29/06;H01L29/16;H01L29/78 |
| 代理公司: | 杭州裕陽聯合專利代理有限公司 33289 | 代理人: | 盛影影 |
| 地址: | 311200 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 增強 可靠性 碳化硅 功率 mosfet 器件 | ||
本發明提出一種具有增強可靠性的碳化硅功率MOSFET器件,包含多個傳統碳化硅MOSFET元胞,以及多個增強可靠性元胞,其結構包含襯底、源極和漏極,還包括第一N型碳化硅區域,位于襯底上方;第一源極區域,包含第一P型體區,第二P型體區和第二N型碳化硅區域,位于所述第一N型碳化硅區域上方;第一隔離柵極區域,位于第一源極區域上方。元胞在第一表面為多邊形或圓形布局設計,且增強可靠性元胞內的第一P型體區連為一體。這種結構減小了JFET區域的面積,提高了器件柵氧的可靠性;增加了第一P型體區面積,提高了器件的雪崩耐量;通過連為一體的第一P型體區設計,使得各個元胞第一P型體區的電位相等,有效提升了器件的短路能力。
技術領域
本發明涉及一種半導體器件,尤其涉及一種具有增強可靠性的碳化硅功率MOSFET器件。
背景技術
傳統硅基半導體器件的性能已經逐漸接近材料的物理極限,而采用以碳化硅為代表的第三代半導體材料所制作的器件具有高頻、高壓、耐高溫、抗輻射等優異的工作能力,能夠實現更高的功率密度和更高的效率。
碳化硅功率MOSFET作為SiC開關器件的代表,具有開關損耗低、工作頻率高、易驅動、適合并聯使用等優點,現已逐漸在電動汽車、充電樁、新能源發電、工業控制、柔性直流輸電等應用場景中得到推廣和使用。圖1-1為傳統碳化硅功率MOSFET元胞的截面圖000。所述傳統碳化硅功率MOSFET元胞包括漏極1、源極11、第一隔離柵極區域13、襯底2、第一N型碳化硅區域3、第一源極區域12、JFET區域7。所述第一N型碳化硅區域3具有第一N型摻雜濃度,位于襯底2上方,具有第一表面14;所述襯底2具有第二表面15。所述JFET區域7與所述第一N型碳化硅區域3相鄰或者位于所述第一N型碳化硅區域3內;所述第一源極區域12,位于所述第一N型碳化硅區域3上方、JFET區域7兩側,所述第一源極區域12包括第二N型碳化硅區域5、第一P型體區4、第二P型體區6,所述第二N型碳化硅區域5具有第二N型摻雜濃度,第二N型摻雜濃度可以大于第一N型摻雜濃度,所述第一P型體區4具有第一P型摻雜濃度,所述第二P型體區6具有第二P型摻雜濃度,第二P型摻雜濃度可以大于第一P型摻雜濃度;所述第一隔離柵極區域13位于JFET區域7和第一源極區域12上方,所述第一隔離柵極區域13包括柵氧層8、柵電極層9、鈍化層10;所述源極11包括第一金屬化層,所述第一金屬層在第一表面14上方延伸并且與第一源極區域12直接接觸在交界位置001處形成歐姆接觸。所述漏極1包括第二金屬化層,所述第二金屬化層在第二表面15下方延伸并且與襯底2在交界位置002處形成歐姆接觸。
圖1-2為采用條狀排列方式的碳化硅功率MOSFET器件000-1在第一表面14的俯視圖。包含多個傳統碳化硅功率MOSFET元胞000,在第一方向α和第四方向δ上為周期排列,呈現條狀排列形式。
圖1-3為采用六邊形排列方式的碳化硅功率MOSFET器件000-2在第一表面14的俯視圖。包含多個傳統碳化硅功率MOSFET元胞000,在第一方向α、第二方向β、第三方向γ上均為周期排列,呈現六邊形排列形式。與圖1-2的條狀設計相比,圖1-3的六邊形元胞設計能夠獲得更高的器件集成度,但是這種設計下器件的JFET區域面積占比更高,可靠性相應下降。
傳統Si IGBT模塊相比,SiC MOSFET因其具有更低的導通損耗和更快的開關頻率,可以提高系統效率。然而,在電力電子裝備技術的發展過程中,追求工作效率和功率密度的同時,系統的穩定性和可靠性是另一個重要的考量指標。碳化硅功率MOSFET器件的可靠性是影響其在電力電子系統中實際應用的關鍵因素。在碳化硅功率MOSFET器件的設計中提升器件的短路能力、浪涌能力和雪崩耐量,與追求更為優化的器件性能一樣,已經成為碳化硅功率MOSFET器件設計的關鍵問題。
發明內容
為了解決上述現有技術的一個或多個技術問題,本發明提出一種增強可靠性的碳化硅功率MOSFET器件。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





