[發明專利]用于測量鉆孔的測量方法和測量系統以及具有測量系統的精密機床有效
| 申請號: | 202011508942.2 | 申請日: | 2020-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN113001259B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發明(設計)人: | R·雷格勒;U·莫斯;G·海因勒 | 申請(專利權)人: | 卡迪爾生產有限責任公司 |
| 主分類號: | B23Q17/20 | 分類號: | B23Q17/20;B24B33/06 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 劉楨;王麗輝 |
| 地址: | 德國尼*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 測量 鉆孔 測量方法 系統 以及 具有 精密 機床 | ||
1.一種用于利用測量系統(100)測量工件中的鉆孔的幾何形狀的測量方法,所述測量系統具有測量單元(110),所述測量單元在準備好操作的狀態下具有測量心軸(120),所述測量心軸(120)能夠借助于線性驅動器(128)沿著平行于測量心軸軸線(125)的行進路徑雙向移動;通過借助于所述線性驅動器(128)將所述測量心軸(120)移動到校準定位,利用參考裝置(200)通過具有限定內部尺寸的至少一個參考元件(230-1,230-2)對所述測量心軸(120)校準至少一次,在所述校準定位中所述測量心軸(120)的測量傳感器布置在所述參考元件的區域中,其特征在于,在測量操作期間,所述參考裝置(200)布置在所述測量心軸(120)的行進路徑之外的中性定位,使得所述測量心軸(120)能夠被引入到待測量的鉆孔中,而不需要下降穿過所述參考元件;為了進行校準操作,所述參考裝置(200)離開所述中性定位移動到校準定位,其中所述參考元件(230-1,230-2)相對于所述測量心軸軸線(125)同軸地布置在校準位置;所述測量心軸(120)借助于所述線性驅動器(128)移動到校準定位,其中所述測量心軸(120)的測量傳感器布置在所述參考元件(230-1,230-2)的區域中;并且,在所述校準定位中,進行用于校準所述測量心軸(120)的校準測量。
2.根據權利要求1所述的測量方法,其特征在于,所述參考裝置(200)在所述中性定位和所述校準定位之間的來回移動自動進行。
3.根據權利要求2所述的測量方法,其特征在于,所述參考裝置(200)在所述校準操作完成之后,在所述測量操作恢復之前,被自動移出所述校準定位回到所述中性定位。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的測量方法,其特征在于,在所述中性定位中,所述參考裝置(200)被接收在殼體(280)中,所述殼體至少部分地封閉所述參考裝置(200)。
5.根據權利要求1至3中任一項所述的測量方法,其特征在于,為了在所述中性定位和所述校準定位之間的變化,所述參考裝置(200)以線性方式在相對于所述測量心軸軸線(125)垂直地延伸的位移方向(205)上移位。
6.一種用于測量工件中的鉆孔的幾何形狀的測量系統(100),包括:測量單元(110),其在準備好操作的狀態下具有測量心軸(120),所述測量心軸(120)能夠借助于線性驅動器(128)沿著平行于測量心軸軸線(125)的行進路徑雙向移動;參考裝置(200),其用于校準所述測量心軸(120),所述參考裝置具有限定內部尺寸的至少一個參考元件(230-1,230-2),其特征在于,所述參考裝置(200)可移動地安裝,使得所述參考裝置(200)能夠在校準定位和中性定位之間移動,在校準定位中,所述參考元件布置在相對于所述測量心軸軸線(125)同軸的校準位置中,使得所述測量心軸(120)能夠借助于所述線性驅動器(128)移動到校準定位,其中所述測量心軸(120)的測量傳感器布置在所述參考元件(230-1,230-2)的區域中,并且在所述中性定位中,所述參考裝置(200)布置在所述測量心軸(120)的行進路徑之外,使得所述測量心軸(120)能夠被引入到待測量的鉆孔中,而不需要下降穿過所述參考元件。
7.根據權利要求6所述的測量系統,其特征在于,所述參考裝置(200)在所述中性定位和所述校準定位之間的來回移動能夠借助于為此目的而提供的驅動器自動進行。
8.根據權利要求6或7所述的測量系統,其特征在于,所述測量系統(100)具有用于接收處于所述中性定位的所述參考裝置(200)的殼體(280),所述殼體(280)至少部分地在所述中性定位封閉所述參考裝置,并且所述參考裝置有可能移出所述殼體進入所述校準定位。
9.根據權利要求8所述的測量系統,其特征在于,所述參考裝置(200)以抽屜的方式被引導,使得其能夠以線性方式移入所述殼體(280)和移出所述殼體。
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