[發明專利]光線方向控制元件、其制造方法以及成像元件

在審

• 申請號: 202011504907.3
• 申請日: 2020-12-18
• 公開（公告）號: CN113050207A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 鹽田國弘;住吉研;芳賀浩史
• 申請（專利權）人: 天馬日本株式會社;武漢天馬微電子有限公司
• 主分類號: G02B5/00
• 分類號: G02B5/00;H01L27/146;H01L27/148
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 譚營營;胡彬

公開了一種光線方向控制元件、其制造方法以及成像元件，所述光線方向控制元件包括基底、布置在基底的主表面上的多個透光層、設置在多個透光層之間的吸光層、以及設置在基底的主表面上并且設置在多個透光層被設置所在的區域的外圍的防傾層。

相關申請的交叉引用

本申請要求享有于2019年12月26日提交的日本專利申請號2019-236033和于2020年9月15日提交的日本專利申請號2020-154516的優先權，其中的全部公開內容通過引用納入本文。

技術領域

本公開總體涉及一種光線方向控制元件、光線方向控制元件的制造方法以及一種成像元件。

背景技術

控制透射光的方向的光線方向控制元件是已知的。例如，美國專利申請公開號2007/0139765描述了一種準直屏幕，包括基板、基板上以預定圖案形成的多個透明柱，以及布置在透明柱之間的吸光材料。使用該準直屏幕，吸光材料吸收入射角大的入射光，因此，在預定的范圍內可以控制從準直屏幕出來的發射光的出口角度。

在美國專利申請公開號2007/0139765中，在預定圖案中形成具有高縱橫比的透明柱，然后在透明柱之間填充吸光材料。在基板上形成透明柱的情況下，透明柱的縱橫比高，因此，在預定圖案的外圍形成的透明柱可以向預定圖案的外部傾斜。

本公開是針對上述情況而進行的，并且本公開的目的是提供一種光線方向控制元件、光線方向控制元件的制造方法以及抑制透光層傾斜的成像元件。

發明內容

為了實現上述目標，根據第一方面的光線方向控制元件包括：

基底；

多個透光層，布置在所述基底的主表面上；

吸光層，設置在多個透光層之間；以及

防傾層，設置在所述底板的主表面上并設置在所述多個透光層被設置所在的區域的外圍。

根據第二方面，一種用于光線方向控制元件的制造方法包括：

在基底的主表面上層壓光敏透光材料；

由透光材料形成被布置的多個透光層和設置在多個透光層被設置所在的區域的外圍上的防傾層；以及

在多個透光層之間形成吸光層。

根據第三方面，成像元件包括：

基板；

布置在所述基板的主表面上并接收來自成像主體的光的多個光接收器；

設置在所述多個光接收器的每一個上的透光層；

設置在所述透光層之間的吸光層；以及

防傾層，其設置在基板的主表面上并設置在所述透光層被設置所在的區域的外圍。

應當理解的是，上述一般說明和以下詳細說明均為示例性和解釋性的，并且對本公開不具有限制性。

所述防傾層設置在所述透光層被設置所在的區域的外圍，因此，可抑制所述透光層的傾斜。

附圖說明

在將下列詳細描述與下列示圖一并考慮，則可更全面地了解本申請，在附圖中：

圖1是示出根據實施例1的光線方向控制元件的上表面的示意圖；

圖2是圖1所示的光線方向控制元件沿A-A線截取的橫斷面視圖；

圖3是解釋根據實施例1的透射光角度分布的示意圖；

圖4是示出根據實施例1的光線方向控制元件的制造方法的流程圖；