[發(fā)明專利]生成電路版圖的方法、設備和計算機可讀存儲介質

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011504380.4
• 申請日: 2020-12-18
• 公開（公告）號: CN112580293A
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發(fā)明（設計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權）人: 全芯智造技術有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392;G06F30/398;G06F111/04
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊飛

1.一種生成電路版圖的方法，包括：

生成參考幾何圖形、將所述參考幾何圖形布置在所述電路版圖上且將所述參考幾何圖形的顏色設置為預定的多個顏色中的一個顏色；以及

基于所述參考幾何圖形，依次生成第一數(shù)量個幾何圖形，所述第一數(shù)量小于第二數(shù)量，所述第二數(shù)量為最終生成的電路版圖中的幾何圖形的數(shù)目；

其中，在生成所述第一數(shù)量個幾何圖形中的目標幾何圖形時，所述目標幾何圖形為所述第一數(shù)量個幾何圖形中的任意一個幾何圖形，執(zhí)行如下操作：

基于約束條件，確定所述目標幾何圖形在所述電路版圖中的位置，所述約束條件與所述目標幾何圖形和與所述目標幾何圖形相鄰的一組幾何圖形之間的相對位置有關；以及

基于所述一組幾何圖形的顏色和所述預定的多個顏色，對所述目標幾何圖形著色。

2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中基于所述約束條件確定所述目標幾何圖形在所述電路版圖中的位置包括：

將所述目標幾何圖形布置在所述電路版圖中的第一位置處；

確定布置在所述第一位置處的所述目標幾何圖形與所述一組幾何圖形中的每個幾何圖形之間的第一相對位置是否滿足所述約束條件；以及

如果確定所述第一相對位置滿足所述約束條件，將所述第一位置確定為所述目標幾何圖形在所述電路版圖中的位置。

3.根據(jù)權利要求2所述的方法，還包括：

如果確定所述第一相對位置不滿足所述約束條件，將所述目標幾何圖形從所述第一位置調整至所述電路版圖中的第二位置；

確定布置在所述第二位置處的所述目標幾何圖形與所述一組幾何圖形中的每個幾何圖形之間的第二相對位置是否滿足所述約束條件；以及

如果確定所述第二相對位置滿足所述約束條件，將所述第二位置確定為所述目標幾何圖形在所述電路版圖中的位置。

4.根據(jù)權利要求2所述的方法，還包括：

如果確定所述第一相對位置不滿足所述約束條件，對所述一組幾何圖形中的至少一個幾何圖形在所述電路版圖中的位置進行調整；

確定布置在所述第一位置處的所述目標幾何圖形與經(jīng)調整的所述一組幾何圖形中的每個幾何圖形之間的第三相對位置是否滿足所述約束條件；以及

如果確定所述第三相對位置滿足所述約束條件，將所述第一位置確定為所述目標幾何圖形在所述電路版圖中的位置。

5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中所述約束條件包括以下至少一項：

所述約束條件包括以下至少一項：相鄰幾何圖形的側邊和側邊之間的距離范圍、相鄰幾何圖形的側邊與端部之間的距離范圍、相鄰幾何圖形的端部與端部之間的距離范圍。

6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其中

相鄰幾何圖形的側邊和側邊之間的距離在32nm至58nm之間，

相鄰幾何圖形的側邊與端部之間的距離在52nm至76nm之間，或

相鄰幾何圖形的端部與端部之間的距離在52nm至76nm之間。

7.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中基于所述一組幾何圖形的顏色和所述預定的多個顏色，對所述目標幾何圖形著色包括：

如果確定所述一組幾何圖形中與所述目標幾何圖形最接近的一個幾何圖形具有第一顏色，將所述目標幾何圖形設置為具有第二顏色，所述第二顏色是所述預定的多個顏色之一，并且不同于所述第一顏色。

8.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中所述預定的多個顏色包括第一顏色和與所述第一顏色不同的第二顏色，并且所述方法還包括：

將由所述二數(shù)量個幾何圖形構成的所述電路版圖分解為第一子版圖和第二子版圖，其中所述第一子版圖中的幾何圖形具有所述第一顏色，并且所述第二子版圖中的幾何圖形具有所述第二顏色。