[發明專利]顯示裝置在審
| 申請號: | 202011504048.8 | 申請日: | 2020-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN113130559A | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發明(設計)人: | 白承漢;尹景載;安賢真;樸成雨 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;楊華 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,所述顯示裝置包括顯示區域、圍繞所述顯示區域的非顯示區域以及形成在所述非顯示區域的至少一側中的彎曲區域,所述顯示裝置包括:
第一玻璃襯底,所述第一玻璃襯底被設置在所述顯示區域中;
第二玻璃襯底,所述第二玻璃襯底被設置在所述非顯示區域中;
抗蝕刻構件,所述抗蝕刻構件被設置成與所述彎曲區域交疊;以及
鏈接線部,所述鏈接線部形成在所述抗蝕刻構件上方并且形成為與所述非顯示區域交疊。
2.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述第一玻璃襯底包括被設置成與所述彎曲區域交疊的第一蝕刻表面。
3.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述第二玻璃襯底包括被設置成與所述彎曲區域交疊的第二蝕刻表面。
4.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述抗蝕刻構件包括金屬或有機物質。
5.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述抗蝕刻構件包括基于硅酮的有機物質、尿烷、聚酰亞胺和光丙烯酸中的至少一種。
6.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述抗蝕刻構件包括Cr、Al、Pt、Au和Ni中的至少一種。
7.根據權利要求1所述的顯示裝置,還包括覆蓋所述鏈接線部的第一平坦化層。
8.根據權利要求1所述的顯示裝置,還包括:
第一平坦化層,所述第一平坦化層被布置在所述抗蝕刻構件與所述鏈接線部之間;以及
第二平坦化層,所述第二平坦化層被布置在所述第一平坦化層上方,
其中,所述鏈接線部被布置在所述第一平坦化層上方。
9.根據權利要求1所述的顯示裝置,還包括被布置在所述抗蝕刻構件下方的彈性構件。
10.根據權利要求9所述的顯示裝置,其中,所述彈性構件具有100%或更大的伸長率。
11.一種顯示裝置,所述顯示裝置包括顯示區域、圍繞所述顯示區域的非顯示區域以及形成在所述非顯示區域的至少一側中的彎曲區域,所述顯示裝置包括:
第一玻璃襯底,所述第一玻璃襯底被設置在所述顯示區域中;
第二玻璃襯底,所述第二玻璃襯底被設置在所述非顯示區域中;
抗蝕刻構件,所述抗蝕刻構件被設置成與所述彎曲區域交疊;
第一平坦化層,所述第一平坦化層被設置成覆蓋所述抗蝕刻構件;
鏈接線部,所述鏈接線部被部分地布置在所述第一平坦化層上方;以及
第二平坦化層,所述第二平坦化層被設置成覆蓋所述鏈接線部和所述第一平坦化層。
12.根據權利要求11所述的顯示裝置,其中,所述抗蝕刻構件包括金屬或有機物質。
13.根據權利要求11所述的顯示裝置,其中,所述抗蝕刻構件包括基于硅酮的有機物質、尿烷、聚酰亞胺和光丙烯酸中的至少一種。
14.根據權利要求11所述的顯示裝置,其中,所述抗蝕刻構件包括Cr、Al、Pt、Au和Ni中的至少一種。
15.根據權利要求11所述的顯示裝置,其中,所述第一玻璃襯底包括被設置成與所述彎曲區域交疊的第一蝕刻表面。
16.根據權利要求11所述的顯示裝置,其中,所述第二玻璃襯底包括被設置成與所述彎曲區域交疊的第二蝕刻表面。
17.根據權利要求11所述的顯示裝置,還包括被布置在所述抗蝕刻構件下方的彈性構件。
18.根據權利要求17所述的顯示裝置,其中,所述彈性構件具有100%或更大的伸長率。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





