[發(fā)明專利]低聲學(xué)噪聲磁共振圖像采集在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011498851.5 | 申請日: | 2020-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN113075602A | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 克里斯托弗·賈德森·哈迪;托馬斯·郭-法·福;伊克·松·坦 | 申請(專利權(quán))人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | G01R33/48 | 分類號: | G01R33/48;G01R33/563;A61B5/055 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 侯穎媖;錢慰民 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 聲學(xué) 噪聲 磁共振 圖像 采集 | ||
1.一種用于執(zhí)行磁共振(MR)圖像采集的方法,所述方法包括以下步驟:
對于所述MR圖像采集的聲學(xué)主導(dǎo)梯度軸:
通過用MR成像系統(tǒng)的聲學(xué)響應(yīng)函數(shù)(ARF)對梯度波形振幅譜進(jìn)行加權(quán)來計算聲壓級譜(SPLS);
選擇所述ARF上頻率范圍內(nèi)的一個或多個頻率,其中選擇所述一個或多個頻率以降低聲學(xué)噪聲;
使用所述一個或多個頻率計算修改的梯度波形;
使一個或多個其他軸上的梯度波形與所述修改的梯度波形同步;以及
使用所述MR圖像采集中的所述修改的梯度波形以采集MR圖像數(shù)據(jù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中將使用所述MR成像系統(tǒng)來執(zhí)行所述MR圖像采集,并且所述聲學(xué)響應(yīng)特定于所述MR成像系統(tǒng),以使得所述SPLS也特定于所述MR成像系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中通過將所述MR成像系統(tǒng)的所述聲學(xué)響應(yīng)函數(shù)(ARF)與所述梯度波形振幅譜相乘來計算所述SPLS。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中選擇所述一個或多個頻率包括識別所述ARF內(nèi)的一個或多個局部低值或極小值,以及選擇與所述局部低值或極小值相關(guān)聯(lián)的所述一個或多個頻率。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中選擇所述一個或多個頻率包括選擇等于或高于所述頻率范圍的最小頻率的一個或多個頻率,所述最小頻率最小化所述聲學(xué)噪聲。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述修改的梯度波形在由所述MR成像系統(tǒng)執(zhí)行時,產(chǎn)生比所述相應(yīng)梯度波形更少的聲學(xué)噪聲。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中計算所述修改的梯度波形包括基于所述一個或多個頻率修改所述相應(yīng)梯度波形的頻率和振幅。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述磁共振(MR)圖像采集包括功能MR圖像(fMRI)采集或者擴(kuò)散或流動MR圖像采集中的一者。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中對于相應(yīng)的聲學(xué)主導(dǎo)梯度軸,對與所述MR圖像采集相關(guān)聯(lián)的脈沖序列的不同的基于時間的區(qū)段單獨(dú)執(zhí)行計算、選擇、計算、同步和使用的步驟。
10.一種磁共振(MR)成像系統(tǒng),包括:
MR掃描器,所述MR掃描器包括主磁體線圈、梯度線圈和RF線圈;和
控制和分析電路,所述控制和分析電路與所述MR掃描器通信并且被配置為操作所述主磁體線圈、所述梯度線圈和所述RF線圈,其中所述控制和分析電路被配置為執(zhí)行一個或多個存儲例程以致使執(zhí)行動作,所述動作包括:
對于所述MR圖像采集的聲學(xué)主導(dǎo)梯度軸:
通過用所述MR成像系統(tǒng)的聲學(xué)響應(yīng)函數(shù)(ARF)對梯度波形振幅譜進(jìn)行加權(quán)來計算聲壓級譜(SPLS);
選擇所述ARF上頻率范圍內(nèi)的一個或多個頻率,其中選擇所述一個或多個頻率以降低聲學(xué)噪聲;
使用所述一個或多個頻率計算修改的梯度波形;
使一個或多個其他軸上的梯度波形與所述修改的梯度波形同步;以及
基于所述修改的梯度波形對所述MR成像系統(tǒng)執(zhí)行脈沖序列以采集MR圖像數(shù)據(jù)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的MR成像系統(tǒng),其中所述聲學(xué)響應(yīng)函數(shù)(ARF)特定于所述MR成像系統(tǒng),以使得所述SPLS也特定于所述MR成像系統(tǒng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的MR成像系統(tǒng),其中選擇所述一個或多個頻率包括識別所述ARF內(nèi)的一個或多個局部低值或極小值,以及選擇與所述局部低值或極小值相關(guān)聯(lián)的所述一個或多個頻率。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的MR成像系統(tǒng),其中所述修改的梯度波形在由所述MR成像系統(tǒng)執(zhí)行時,產(chǎn)生比所述相應(yīng)梯度波形更少的聲學(xué)噪聲。
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