[發明專利]基于無定位點的試卷識別和矯正方法在審
| 申請號: | 202011496539.2 | 申請日: | 2020-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN112597868A | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發明(設計)人: | 陳長志 | 申請(專利權)人: | 四川才子軟件信息網絡有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00;G06K9/32;G06K9/46;G06K9/62;G06T7/12;G06T7/13 |
| 代理公司: | 成都佳劃信知識產權代理有限公司 51266 | 代理人: | 幸偉山 |
| 地址: | 621000 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 定位 試卷 識別 矯正 方法 | ||
1.基于無定位點的試卷識別和矯正方法,其特征在于,包括以下步驟:
第一階段,從模板試卷中尋找用于定位的定位塊:
選取一張空白試卷作為模板試卷;
將模板試卷的正面圖像、背面圖像分別劃分為左上圖像相位、右上圖像相位、左下圖像相位和右下圖像相位;
對模板試卷的圖像進行二值化和濾波處理,以濾除圖像噪聲和細小墨點;
在左上圖像相位、右上圖像相位、左下圖像相位和右下圖像相位中,從圖像頂角向圖像中心逐行進行橫向滑窗;所述橫向滑窗的大小為L×L px,且橫向步長和縱向步長均為lpx;所述L和l均為大于1的整數;
對橫向滑窗內的區域進行邊緣檢測和輪廓提取,尋找到定位塊的區域;
采用模板匹配函數的評分機制求得評分最低的圖塊,并作為相位的定位塊;
第二階段,在試卷樣品中識別定位塊,并利用定位塊對試卷樣品的圖像進行矯正:
根據模板試卷中左上圖像相位、右上圖像相位、左下圖像相位和右下圖像相位對應的定位塊的坐標,在試卷樣品中查找到識別的區域;
對識別的區域進行放大至K px,以模板試卷的相位對應的定位塊為模板圖,采用模板匹配函數,求得最佳匹配坐標,以最佳匹配坐標為左上角頂點的l1×l1 px圖塊作為相位識別得到試卷樣本的定位塊;
重復并求得試卷樣品的任一定位塊,選取覆蓋客觀題和考號區域的數據最多的定位塊,采用仿射矩陣和仿射變換函數對試卷樣品進行仿射矯正;
利用仿射矯正后的圖像進行客觀題和考號識別。
2.根據權利要求1所述的基于無定位點的試卷識別和矯正方法,其特征在于,所述L取值為300,且所述l取值為20。
3.根據權利要求1所述的基于無定位點的試卷識別和矯正方法,其特征在于,還包括若模板試卷的背面無客觀題和考號識別區域,則只獲取模板試卷的正面圖像。
4.根據權利要求1所述的基于無定位點的試卷識別和矯正方法,其特征在于,還包括統計長度或/和寬度大于10px的輪廓,若目標輪廓數量大于4,則該橫向滑窗符合圖元信息,并將該橫向滑窗作為定位塊區域,并停止滑動搜索。
5.根據權利要求1~4任一項所述的基于無定位點的試卷識別和矯正方法,其特征在于,所述采用模板匹配函數的評分機制求得評分最低的圖塊,并作為相位的定位塊,包括:
從定位塊區域的最左上角開始,以80px×80px為圖塊,采用歸一化相關匹配法,求得220×200的浮點矩陣;所述浮點矩陣中的點位對應的值即以該點位在圖像中的像素點為左上角的80px×80px圖塊與模板試卷的匹配度;
采用橫向步長和縱向步長均為10px的圖塊進行滑窗,求得評分最低的圖塊,并記錄定位塊在模板試卷中的坐標信息。
6.根據權利要求1所述的基于無定位點的試卷識別和矯正方法,其特征在于,所述K取272×272。
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