[發(fā)明專利]基于強(qiáng)耦合效應(yīng)的錐臺(tái)載二維共形低散射超寬帶相控陣

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011495549.4
• 申請(qǐng)日: 2020-12-17
• 公開（公告）號(hào): CN112701495B
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊仕文;張哲晨;屈世偉;陳益凱;胡俊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 電子科技大學(xué)
• 主分類號(hào): H01Q21/06
• 分類號(hào): H01Q21/06;H01Q9/16;H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q1/50;H01Q15/00
• 代理公司: 四川省成都市天策商標(biāo)專利事務(wù)所 51213
• 代理人: 張秀敏

1.基于強(qiáng)耦合效應(yīng)的錐臺(tái)載二維共形低散射超寬帶相控陣，它包括:天線的非平衡饋電結(jié)構(gòu)(1)；兩個(gè)金屬短路柱(2)；具有一定厚度的金屬地板(3)；位于所述金屬地板上方用于支撐的介質(zhì)基板(4)；印刷在上述支撐介質(zhì)基板上表面的強(qiáng)電容耦合結(jié)構(gòu)的偶極子輻射單元(5)，所述兩個(gè)金屬短路柱分別設(shè)置于偶極子輻射單元的左右臂，偶極子輻射單元的左右臂各有一個(gè)金屬短路柱，通過(guò)所述金屬短路柱實(shí)現(xiàn)與金屬地板的電連接；位于支撐介質(zhì)基板上方的第一層寬角阻抗匹配層(6)；位于第一層寬角阻抗匹配層上方的阻性印刷介質(zhì)層(7)；位于阻性印刷介質(zhì)層上方的第二層寬角阻抗匹配層(8)；印刷在阻性印刷介質(zhì)層的雙矩形阻性貼片(9)，該阻性貼片的長(zhǎng)邊與偶極子輻射單元相互正交；印刷在第二層寬角阻抗匹配層上表面的長(zhǎng)條金屬貼片(10)；印刷在第二層寬角阻抗匹配層上表面的全裂口環(huán)金屬環(huán)(11)，所述全裂口環(huán)沿著偶極子輻射單元布陣方向排列；阻性貼片(9)、寬角阻抗匹配層(6)、全裂口環(huán)金屬環(huán)(11)以及介質(zhì)基板(4)構(gòu)成了共形電磁超材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于強(qiáng)耦合效應(yīng)的錐臺(tái)載二維共形低散射超寬帶相控陣，其特征在于：整個(gè)所述相控陣天線與錐臺(tái)載體完全共形，偶極子輻射單元沿著圓周方向的間距隨著錐臺(tái)母線呈線性變化，在偶極子輻射單元上方加載長(zhǎng)條金屬貼片，能有效改善由錐臺(tái)共形環(huán)境引起的相控陣有源駐波惡化。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于強(qiáng)耦合效應(yīng)的錐臺(tái)載二維共形低散射超寬帶相控陣，其特征在于：所述的雙矩形阻性貼片完全共形于載體表面，且其長(zhǎng)度隨著在錐臺(tái)母線方向上的位置呈線性改變，能保證錐臺(tái)載共形相控陣的帶內(nèi)散射特性得到有效縮減。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于強(qiáng)耦合效應(yīng)的錐臺(tái)載二維共形低散射超寬帶相控陣，其特征還在于：在偶極子輻射單元上方采用全裂口環(huán)周期結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)在改善相控陣掃描駐波特性的同時(shí)，對(duì)交叉極化入射波保持透射狀態(tài)，保證了加載的共形電磁超材料吸收外來(lái)電磁波的能力。