[發明專利]用于光源掩模優化的方法、設備和存儲介質

有效

• 申請號: 202011491033.2
• 申請日: 2020-12-16
• 公開（公告）號: CN112579286B
• 公開（公告）日: 2021-08-06
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 全芯智造技術有限公司
• 主分類號: G06F9/50
• 分類號: G06F9/50;G06F30/398
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 黃倩

1.一種用于光源掩模優化的方法，包括：

生成用于優化光源和掩模版圖的多個子作業，其中每個子作業指定對至少一個光源地圖和所述掩模版圖執行的一個或多個操作，其中，所述光源具有所述至少一個光源地圖；

基于多個處理設備的配置信息和所述一個或多個操作的類型，將所述多個子作業分配給所述多個處理設備，所述多個處理設備中的至少一個處理設備被配置有加速處理資源；以及

基于所述多個處理設備對所述多個子作業處理的結果，確定所述光源的優化的光源地圖；

其中生成所述多個子作業包括：

確定所述至少一個光源地圖中的目標光源地圖所包括的多個地圖單元；

將第一組子作業中的每個子作業設置為對所述掩模版圖和所述多個地圖單元中的給定地圖單元執行卷積操作，其中所述卷積操作的結果用于生成與所述目標光源地圖相對應的掩模圖像；以及

將第二組子作業中的每個子作業設置為對所述掩模圖像的至少一部分執行測量操作，以確定工藝窗口，其中所述第一組子作業為所述多個子作業中的子作業，所述第二組子作業為所述多個子作業中的另外的子作業，并且所述給定地圖單元為所述多個地圖單元之一。

2.根據權利要求1所述的方法，其中基于多個處理設備的所述配置信息和所述一個或多個操作的類型，將所述多個子作業分配給所述多個處理設備包括：

基于所述多個處理設備的所述配置信息，從所述多個處理設備中確定第一組處理設備和第二組處理設備，所述第一組處理設備為被配置有所述加速處理資源的一組處理設備，所述第二組處理設備為未被配置有所述加速處理資源的一組處理設備；

響應于確定所述第一組子作業，將所述第一組子作業分配給所述第一組處理設備；以及

響應于確定所述第二組子作業，將所述第二組子作業分配給所述第二組處理設備；

所述第一組子作業包括所述卷積操作；所述第二組子作業包括所述測量操作。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一組子作業的數目不同于所述第二組子作業的數目。

4.根據權利要求1所述的方法，其中生成所述多個子作業包括：

將所述多個子作業中的每個子作業設置為：對所述掩模版圖和給定光源地圖執行卷積操作，以獲得與所述給定光源地圖相對應的掩模圖像；以及對所述掩模圖像執行測量操作，以確定工藝窗口，其中所述給定光源地圖為所述至少一個光源地圖之一。

5.根據權利要求4所述的方法，其中基于多個處理設備的所述配置信息和所述一個或多個操作的類型，將所述多個子作業分配給所述多個處理設備包括：

基于所述多個處理設備的所述配置信息，從所述多個處理設備中確定多對處理設備，每對處理設備包括被配置有所述加速處理資源的第一處理設備和未被配置有所述加速處理資源的第二處理設備；以及

響應于確定所述多個子作業中的每個子作業包括所述卷積操作和所述測量操作，將所述每個子作業分配給所述多對處理設備中的相應的一對處理設備，使得所述卷積操作由所述第一處理設備執行，并且所述測量操作由所述第二處理設備執行。

6.根據權利要求4所述的方法，其中基于所述多個處理設備對所述多個子作業處理的結果，至少確定所述光源的優化的光源地圖包括：基于分別由所述多個子作業確定的所述工藝窗口，從多個光源地圖中選擇所述優化的光源地圖。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述加速處理資源被可移除地配置給所述至少一個處理設備。