[發明專利]一種帶阻抗孔的螺旋上室調壓井結構在審
| 申請號： | 202011490951.3 | 申請日： | 2020-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN112502104A | 公開（公告）日： | 2021-03-16 |
| 發明（設計）人： | 袁濤 | 申請（專利權）人： | 上?？睖y設計研究院有限公司 |
| 主分類號： | E02B9/00 | 分類號： | E02B9/00;E02B9/06;E02D29/12 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 楊琛 |
| 地址： | 200434 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 阻抗 螺旋 調壓 結構 | ||
1.一種帶阻抗孔的螺旋上室調壓井結構，包括設置在引水隧洞(8)末端的井筒本體(1)，其特征在于，所述井筒本體(1)內設有豎向延伸的閘門孔(61)，所述閘門孔(61)分別與引水隧洞(8)、井筒本體(1)相連通，并用作阻抗孔(7)；還包括螺旋型上室(2)、交通洞(4)和檢修平臺(5)，所述螺旋型上室(2)與井筒本體(1)相連通；所述檢修平臺(5)設置在所述井筒本體(1)的頂部；所述交通洞(4)呈Y型，分別與螺旋型上室(2)、檢修平臺(5)相連通；在所述螺旋型上室(2)與交通洞(4)的連通處還設有阻水墻(3)。
2.根據權利要求1所述的螺旋上室調壓井結構，其特征在于，所述井筒本體(1)內設有豎井式閘門(6)，所述閘門孔(61)位于所述豎井式閘門(6)內。
3.根據權利要求1所述的螺旋上室調壓井結構，其特征在于，所述螺旋型上室(2)為螺旋型結構，其縱坡設置范圍為1％～8％。
4.根據權利要求1所述的螺旋上室調壓井結構，其特征在于，所述螺旋型上室(2)和交通洞(4)的斷面均呈城門洞形。
5.根據權利要求1所述的螺旋上室調壓井結構，其特征在于，所述螺旋型上室(2)與井筒本體(1)相交處的底板高程為所述井筒本體(1)的正常運行水位。
6.根據權利要求1所述的螺旋上室調壓井結構，其特征在于，所述檢修平臺(5)的高度大于所述井筒本體(1)的最高涌浪水位。
7.根據權利要求1所述的螺旋上室調壓井結構，其特征在于，所述阻水墻(3)呈三角形，兩面均設有臺階。
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