[發明專利]一種具有殺菌和遠紅外復合功能的陶瓷數碼釉墨水及其制備方法

有效

• 申請號: 202011490132.9
• 申請日: 2020-12-17
• 公開（公告）號: CN112646416B
• 公開（公告）日: 2022-11-08
• 發明（設計）人: 劉建軍;楊延輝;黃藝真;黃兵
• 申請（專利權）人: 佛山市三晶石陶瓷釉料有限公司
• 主分類號: C09D11/30
• 分類號: C09D11/30;C09D11/38
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;牛彥存

1.一種具有殺菌和遠紅外復合功能的陶瓷數碼釉墨水，其特征在于，所述陶瓷數碼釉墨水包括質量百分比為30~60%的數碼釉粉；其中，數碼釉粉的原料組成包括：以質量百分比計，烏蘭茶晶石30~70%，高溫陶瓷熔塊10~35%，低溫陶瓷熔塊5~50%；所述高溫陶瓷熔塊的化學組成包括：以質量百分比計，Al₂O₃ 15～30%，SiO₂ 30～50%，CaO 15～30%，K₂O 1～5%，Na₂O1～5%，MgO 1～4%，ZnO 1～4%；和/或所述低溫陶瓷熔塊的化學組成包括：以質量百分比計，Al₂O₃ 2～10%，SiO₂ 50～70%，CaO 15～30%，K₂O 1～4%，Na₂O 1～4%，MgO 1～4%，ZnO 1～4%。

2.如權利要求1所述的陶瓷數碼釉墨水，其特征在于，所述數碼釉粉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO₂ 45～70%，Al₂O₃ 8～28%，CaO 3～15%，MgO 1～15%，Na₂O 1～8%。

3.如權利要求2所述的陶瓷數碼釉墨水，其特征在于，所述數碼釉粉的始熔溫度為800~1300℃。

4.如權利要求1所述的陶瓷數碼釉墨水，其特征在于，所述高溫陶瓷熔塊的始熔溫度為1050～1300℃；和/或所述低溫陶瓷熔塊的始熔溫度為700～1100℃。

5.如權利要求1所述的陶瓷數碼釉墨水，其特征在于，所述數碼釉粉的粒徑D₉₇在10μm以下。

6.如權利要求1所述的陶瓷數碼釉墨水，其特征在于，所述數碼釉粉通過以下方式制備得到：按照數碼釉粉原料的質量比例稱取相應原料，混合以形成混合料；將混合料在800~1300℃保溫0.5~2.5h進行燒制均化處理；將燒制均化處理后的混合料研磨至所需粒徑，得到數碼釉粉。

7.如權利要求6所述的陶瓷數碼釉墨水，其特征在于，高溫陶瓷熔塊和低溫陶瓷熔塊的質量比為1：1～1：10，則燒制均化溫度為800～1150℃；高溫陶瓷熔塊和低溫陶瓷熔塊的質量比為1：1～10：1，則燒制均化溫度為950～1300℃。

8.如權利要求1所述的陶瓷數碼釉墨水，其特征在于，所述陶瓷數碼釉墨水還包括：以質量百分比計，溶劑45~65%和分散劑5~25%；其中，溶劑和分散劑同為水性或同為油性。

9.如權利要求1至8中任一項所述的陶瓷數碼釉墨水的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟A，按照陶瓷數碼釉墨水的原料組成稱量各原料并分散混勻以形成分散液；

步驟B，將步驟A得到的分散液研磨至粒度D₉₇≤2.5μm；

步驟C，將研磨后的分散液在低于0.5MPa的壓力下過濾，制成具有殺菌和遠紅外復合功能的陶瓷數碼釉墨水。

10.如權利要求1至8中任一項所述的陶瓷數碼釉墨水在陶瓷制品中的應用。